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光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家

光學(xué)平臺-自動平衡精密隔振光學(xué)平臺
zvb（vibration table：breadboard from zolix）系列是采用韓國大一氣浮支架，配合卓立漢光的光學(xué)平臺臺面，組合而成的氣浮式隔振光學(xué)平臺，整體高度800mm，分為臺面和支撐兩部分，臺面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺面為1cr13鐵磁不銹鋼，上臺面厚度4～6mm，中間為井字形蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為碳鋼板，臺面具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺面采用精密磨削工藝臺面的平面度達(dá)到0.2~0.05mm/600mm×600mm,
更新時間:2024-10-18
光學(xué)平臺-自動平衡型充氣平臺
浮式隔振光學(xué)平臺，由臺面和支撐兩部分組成。臺面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺面為熱變形系數(shù)很小的430系列高導(dǎo)磁鎳合不銹鋼，中間為真蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為鋼板，具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺面按照25mm×25mm孔距均布m6螺紋孔，方便安裝各類位移臺和調(diào)整架，每個螺紋孔下方具有獨立的隔離杯密封，非常方便清潔。
更新時間:2024-10-18
光學(xué)平臺-空氣注入式隔振墊
dvim系列-t型空氣注入式隔振墊震動隔離：氣墊隔離 ;固有頻率：（垂直/水平）1.5-2.0hz ;衰減方式：孔式空氣阻尼;roll-off rate[10hz]: -32~-35db ;水平方式：由3個自動調(diào)平閥自動調(diào)平系統(tǒng)
更新時間:2024-10-18
DVIA精密主動隔振光學(xué)平臺
dvia精密主動隔振光學(xué)平臺具有非常優(yōu)秀的隔振性能，特別是在低頻0.5hz- 10hz達(dá)到90%以上的隔振效率，隔振性能優(yōu)異,廣泛應(yīng)用于掃描探針顯微鏡,原子力顯微鏡，掃面隧道顯微鏡，激光干涉儀 ,半導(dǎo)體檢測設(shè)備，三維形貌分析儀和激光共聚焦顯微鏡等
更新時間:2024-10-18
桌面型氣浮隔振光學(xué)平臺
zdvt系列為卓立漢光研發(fā)的桌面型氣浮隔振光學(xué)平臺，采用半膜片式空氣彈簧技術(shù)，配合鐵磁不銹鋼臺面和桌面型框架精密裝調(diào)而成， 整體高度211mm，分為氣浮式桌面型框架和臺面兩部分。
更新時間:2024-10-18
歐庫睿因 | i4系列主動隔振系統(tǒng)
桌面式主動隔振平臺，用于搭配掃描電子顯微鏡，六自由度主動隔振。
更新時間:2024-10-18
歐庫睿因 | 小型主動隔振平臺
nano系列小型主動隔振平臺，專為小型和輕型應(yīng)用而設(shè)計！自從高分辨率測量和制造技術(shù)達(dá)到納米尺度以來，振動就一直是一個重要問題。有*消除振動干擾是獲得精確和可重復(fù)測量結(jié)果的關(guān)鍵。解決方法是將儀器與振動源隔離開來。
更新時間:2024-10-18
Accurion-VarioBasic 系列主動隔振光學(xué)平臺
variobasic 系列主動隔振光學(xué)平臺，兩個或四個模塊化手動負(fù)載調(diào)節(jié)隔振元件和控制器，適用于大負(fù)載場景安裝在臺面下方或設(shè)備下方，用于消除低頻震動。
更新時間:2024-10-18
Accurion | Workstation系列主動隔振臺
workstation 集成i4的人體工程學(xué)實驗臺，將i4隔振平臺與桌面集成在一起的主動隔振平臺桌。
更新時間:2024-10-18
Accurion | Vario系列集成Vario 的人體工程學(xué)實驗臺
workstation vario集成vario實驗臺，集成vario的人體工程學(xué)實驗臺，下方帶有腳輪便于移動，便于實驗。適用于搭配3d輪廓儀、電子顯微鏡等。
更新時間:2024-10-18
Accurion | Sandwich系列重負(fù)載隔振平臺
歐庫睿因sandwich 系列重負(fù)載隔振平臺，重負(fù)載主動隔振平臺，最大負(fù)載1200kg,可放置于光學(xué)平臺或大型設(shè)備下方，具有良好的負(fù)載以及主動隔振性能。
更新時間:2024-10-18
Accurion | Duo系列 重載隔振模組
duo系列 重載主動隔振平臺，重載型主動隔振模組、單個模組可負(fù)載400kg,可多個模塊并聯(lián)使用，適用于大負(fù)載設(shè)備主動隔振。
更新時間:2024-10-18
歐庫睿因AE系列隔音罩 隔離空氣噪聲
ae系列隔音罩 隔離空氣噪聲，適用于相關(guān)設(shè)備的隔除噪音，搭配主動隔振平臺或者光學(xué)平臺使用，有多種尺寸可以選擇。
更新時間:2024-10-18
5噸1*1米不銹鋼小地磅 5t防水電子平臺秤
5噸1*1米不銹鋼小地磅 5t防水電子平臺秤?想買質(zhì)量好的地磅就買上海漢衡的，為什么要選擇上海漢衡呢？因為我們無論是從工藝還是材質(zhì)方面都優(yōu)于其他廠家，凡是購買我司地磅的客戶，我們的技術(shù)員會免費安裝并培
更新時間:2024-10-17
3噸打印小票電子地磅 3000kg雙層平臺秤
3噸打印小票電子地磅 3000kg雙層平臺秤?廣泛應(yīng)用于倉庫、化工車間、貨場、藥廠、食品加工廠、水產(chǎn)集貿(mào)市場，工地等場所放貨物稱量, 可根據(jù)客戶要求訂制尺寸可根據(jù)需求定制。產(chǎn)品功能：1.秤臺由秤體和框
更新時間:2024-10-17
食品廠3噸不銹鋼電子地磅 1*1米防水平臺秤
食品廠3噸不銹鋼電子地磅 1*1米防水平臺秤?食品廠用不銹鋼地磅哪家好？為您推薦上海漢衡！我司不銹鋼地磅有單層、雙層、移動、帶斜坡多種類型可選，您可以根據(jù)自己的實際需求來選擇購買何種類型的不銹鋼地磅，
更新時間:2024-10-17
SCS 5噸帶斜坡電子地磅 1米乘1米超低平臺秤
5噸帶斜坡電子地磅 1米乘1米超低平臺秤?產(chǎn)品簡介：地磅秤主要由秤體一件，傳感器四只，接線盒一只，通訊電纜五米，稱重儀表一只組成，這是小地磅的標(biāo)準(zhǔn)配置，當(dāng)然還有選配件，比如說地磅引坡，儀表架，連接電腦
更新時間:2024-10-17
scs 3噸帶打印平臺秤 3t帶RS232接口電子磅秤
3噸帶打印平臺秤 3t帶rs232接口電子磅秤?技術(shù)參數(shù)：準(zhǔn)  確  度：符合jjg539-97中三級要求   使用電源：ac187～242v；49～
更新時間:2024-10-17
1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺秤
1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺秤?想買質(zhì)量好的地磅就買上海漢衡的，為什么要選擇上海漢衡呢？因為我們無論是從工藝還是材質(zhì)方面都優(yōu)于其他廠家，凡是購買我司地磅的客戶，我們的技術(shù)員會免費安
更新時間:2024-10-17
大理石氣浮光學(xué)平臺
產(chǎn)品特點：1.臺面材料采用健康型天然大理石平臺代替原有的鋼結(jié)構(gòu)平臺，其明顯優(yōu)點是平面度好、質(zhì)量大、穩(wěn)定性好、耐腐蝕性強(qiáng)2.內(nèi)置精密空氣彈簧隔振系統(tǒng)，具備優(yōu)異的隔振性能，自動調(diào)節(jié)水平功能3.該產(chǎn)品適用于平面度要求高的實驗
更新時間:2024-10-14
蜂窩精密阻尼隔振平臺
內(nèi)部蜂窩狀芯板采用的是不銹鋼、鋁板，鍍鋅板等防腐材料，內(nèi)芯密度為250kg/m3；采用國內(nèi)最新的粘接工藝，顛覆了傳統(tǒng)的焊接工藝，無焊接應(yīng)力；質(zhì)量輕，強(qiáng)度高，穩(wěn)定性好。
更新時間:2024-10-14
氣浮光學(xué)平臺
采用半膜片式空氣彈簧，隔振性能好，固有頻率通常小于1.5hz~3hz,性價比非常高的科研級氣浮隔振光學(xué)平臺
更新時間:2024-10-14
真蜂窩平臺面包板
本公司制造的精密光學(xué)平臺，組合精密橡膠阻尼隔震墊,和水平調(diào)節(jié)軸承，具有較好隔振效果。適合于現(xiàn)代光學(xué)、物理力學(xué)、激光電子、光通訊試驗及儀器搭載等領(lǐng)域應(yīng)用。
更新時間:2024-10-14
標(biāo)準(zhǔn)阻尼隔振平臺
光學(xué)平臺廣泛應(yīng)用于光學(xué)，電子，精密機(jī)械制造，冶金，航天，航空，航海，精密化工和無損檢測等領(lǐng)域，以及其他機(jī)械行業(yè)的精密試驗儀器，設(shè)備振動隔離的關(guān)鍵裝置中。
更新時間:2024-10-14
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000 系列紫外單面光刻機(jī)此系列包含六種型號：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2024-10-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s 系列雙面光刻機(jī)，對準(zhǔn)精度：±2 mm（雙面,片厚 0.8mm），±0.8mm（單面）
更新時間:2024-10-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī),非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2024-10-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長）
更新時間:2024-10-11
型紫外單面光刻機(jī)（臺式）
ure-2000/17 型紫外單面光刻機(jī)（臺式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對準(zhǔn)精度：±1μm
更新時間:2024-10-11
型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/25 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對準(zhǔn)精度：± 0.8μm
更新時間:2024-10-11
紫外雙面光刻機(jī)型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000s/25a 型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：6 英寸，分辨力：1 μm
更新時間:2024-10-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25 型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸，正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2024-10-11
URE-2000B 型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000b 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：100mmx100mm，分辨力：0.8μm（膠厚 2μm 的正膠）
更新時間:2024-10-11
型無掩模單面光刻機(jī)
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時間:2024-10-11
無掩膜單面光刻機(jī)
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機(jī)，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2024-10-11
URE-2000/600 紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/600 紫外單面光刻機(jī)，光束口徑： 650mm×650mm，對準(zhǔn)精度： ±1.5μm
更新時間:2024-10-11
雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25s 型雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸（或 6 英寸），正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2024-10-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l（a）型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：6 英寸，正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2024-10-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35al 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波長）,對準(zhǔn)精度：≤±0.8μm
更新時間:2024-10-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/a8 型紫外雙面光刻機(jī), 曝光面積：8 英寸, 曝光波長：365nm： 15mw/cm，405nm：15-30mw/cm2, 對準(zhǔn)精度：±2 μm （雙面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （單面）
更新時間:2024-10-11
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/b 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積：6 英寸，對準(zhǔn)精度：± 2μm （雙面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （單面）
更新時間:2024-10-11
雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l（b）型雙面光刻機(jī), 曝光面積：4 英寸, 正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué) 大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2024-10-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/30 型紫外單面光刻機(jī),高倍率雙目雙視場顯微鏡和 22 英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準(zhǔn)過程，并提供 usb 輸出；既滿足高精度對準(zhǔn)，又可用于檢測曝光結(jié)果，且曝光結(jié)果和方便存儲
更新時間:2024-10-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機(jī),,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2024-10-11
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000系列紫外單面光刻機(jī)，主要型號有：ure-2000a，ure-2000b，ure-20000/35,ure-20000/35a，ure-2000/25,ure-2000/17.由中國科學(xué)院制造生產(chǎn)。
更新時間:2024-10-11
德國 Sentech 等離子沉積機(jī)
pecvd depolab 200 等離子體沉積機(jī),將平行板等離子體源設(shè)計與直接負(fù)載相結(jié)合,可以升為更大的抽油機(jī)、低頻電源和額外的燃?xì)夤艿馈?/div> 更新時間:2024-10-11
德國 Sentech 等離子刻蝕機(jī)
德國sentech icp-rie si 500 等離子刻蝕機(jī)，代表了電感耦合等離子體(icp)加工在研究和生產(chǎn)上的先優(yōu)勢。它以ptsa等離子體源、動態(tài)控溫基片電、全控真空系統(tǒng)、先進(jìn)的sentech 控制軟件為基礎(chǔ)，采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)，為操作si 500提供了非常人性化的通用用戶界面。靈活性和模塊化是si 500的設(shè)計特點。
更新時間:2024-10-11
德國 Sentech 等離子刻蝕機(jī)
etchlab 200 rie等離子體蝕刻機(jī)是一種將rie平行板電設(shè)計的優(yōu)點與直接負(fù)載的低成本設(shè)計相結(jié)合的直接負(fù)載等離子體蝕刻機(jī)系列。etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能，從零件到200a€‰mm或300a€‰mm直徑的晶圓片直接加載到電或載體上。
更新時間:2024-10-11
德國 Sentech 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
entech rie si591 平板電容式反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；sentech控制軟件
更新時間:2024-10-11
德國 Sentech 等離子體 ICP 干法刻蝕機(jī)
sentech si 500 電感耦合等離子體icp干法刻蝕系統(tǒng)，感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)臺，低損傷納米結(jié)構(gòu)刻蝕，高速率刻蝕，內(nèi)置icp等離子源，動態(tài)溫控。
更新時間:2024-10-11

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機(jī) 酸度計（PH計） 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑