大氣顆粒物采樣器產品及廠家
如果您應用nir光譜在研究，診斷或過程控制中的話，海洋光學nirquest近紅外光纖光譜儀將是一個低成本，方便的選擇，可取代ft-ir或同類技術的系統(tǒng)。nirquest光譜儀采用高性能的光學平臺，具有較低的電子噪聲和多個光柵的選擇。
更新時間:2024-10-21
在可見光至近紅外波段，地表物體自身的熱輻射幾乎為零。地物發(fā)出的波譜主要以反射太陽輻射為主。地物光譜測量是依據地球表面物體對可見光和近紅外光的反射特性對物體做定性或定量分析的方法。用于測量、采集、分析地表物體在野外自然條件下的反射率的光譜儀器我們稱之為地物光譜儀。海洋光學現(xiàn)推出fs1100手持式地物光纖光譜儀,專用于地表特征反射光譜的測量。可實現(xiàn)快速、準確、無損且非接觸式光譜測量。
更新時間:2024-10-21
mpaii是布魯克光譜部門集近40年設計和生產ftir和ft-nir光譜儀經驗的結晶，該儀器具有強大的擴展靈活性和優(yōu)越的性能，為ft-nir分析儀器樹立了新的標準。其高性能的附件和靈活的操作性，成為實驗室和過程分析開發(fā)各種方法不可缺少的強有力工具，能夠最大程度的滿足不同用戶科研和生產qa/qc的需求。采用模塊化設計，可以針對每個分析任務進行單獨配置。卓越的擴展性能在有特定
更新時間:2024-10-21
用于沉積納米級薄膜、納米粉末包覆、長深孔樣品鍍膜;具有thermal-ald、peald、particle-ald和生產型ald;具備近100種膜層工藝。應用領域：芯片封裝、半導體high-k介電層、納米涂層、3d涂層、鋰電池、催化劑、太陽能電池、5g通訊（saw器件）、生物醫(yī)學仿生、熒光材料、oled顯示、有機材料、電子電路、光學膜等。
更新時間:2024-10-21
美國creativedesignengineering,簡稱“cde”，成立于1995年，位于美國加州硅谷的庫比蒂諾-cupertino,cde公司專注于四探針設備的生產和銷售，累計銷量達1000臺以上，遍布世界各大半導體fab,太陽能光伏企業(yè)，大學及科研機構，“cde”是四探針領域的領導品牌。
更新時間:2024-10-21
美國fourdimensions,inc,簡稱“4d”，成立于1978年，位于美國加州硅谷的hayward,4d公司專注于四探針設備和cv儀的生產和銷售，累計銷量達800臺以上，遍布世界各大半導體fab,太陽能光伏企業(yè)，大學及科研機構。
更新時間:2024-10-21
nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。
更新時間:2024-10-21
激光分子束外延(lasermbe)是上個世紀90年代發(fā)展起來的一種新型高精密制膜技術，它集pld的制膜特點和傳統(tǒng)mbe的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位實時監(jiān)控為一體，除保持了pld方法制備的膜系寬，還可以生長通常的半導體超晶格材料，特別適合生長多元素、高熔點、復雜層狀結構的薄膜，如超導體、光學晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機高分子等。
更新時間:2024-10-21
基質輔助脈沖激光蒸發(fā)(maple)是pld的一種變體。這是由nrl集團新引入的技術，以促進某些功能有機材料的薄膜沉積。基于uv(5-6ev)的傳統(tǒng)pld技術中，光化學反應可能會惡化有機分子、聚合物等的功能。而在maple中，通過將待沉積的有機物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質)混合來制備特殊的靶。除了光學吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質的先決條件。
更新時間:2024-10-21
1.ald(傳統(tǒng)的熱原子層沉積)；2.peald(等離子增強原子層沉積)；3.powderald(粉末樣品的原子層沉積)；儀器簡介：原子層沉積（atomiclayerdeposition，ald），也稱為原子層外延（atomiclayerepitaxy，ale），或原子層化學氣相沉積（atomiclayerchemicalvapordeposition。
更新時間:2024-10-21
特點：?用于耐刻蝕工藝、電鍍、liga、mems等?感光波段：broadbanduv、i-line(365nm)g-line(436nm)、e-beam、x-ray、synchrotron?涂膠厚度從幾微米到上百微米不等?覆蓋能力強，分辨率高，圖形邊緣結構陡直?化學放大膠，具有非常高的靈敏度?可得到undercut結構，用于lift-off工藝?可替代su8膠。
更新時間:2024-10-21
特點：?用于消除電子束曝光、sem成像、fib等工藝中的荷電效應?通過旋涂的方式涂膠，操作簡單?涂膠厚度：40nm@4000rpm?電子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不損傷襯底材料?對紫外光、電子束不敏感，無需黃光室5090.02，適于pmma、csar62、hsq等。
更新時間:2024-10-21
特點：?紫外負膠（厚膠），適用于liga及mems應用?涂膠厚度10μm@1000rpm，可提供更高厚度（200μm）?sxar-n4600-10:結構穩(wěn)定性好、重復性好，厚度可達幾百微米，適用于永久保留膠體結構的應用?sxar-n4650-10:容易去膠，適合于電鑄工藝
更新時間:2024-10-21
刻膠（resist）概述光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料，是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應用于集成電路(ic)，封裝(packaging)，微機電系統(tǒng)(mems)，光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板顯示器(led,lcd,oled)，太陽能
更新時間:2024-10-21
pda-8000是島津公司2010年推出的最新一款光電發(fā)射光譜儀，集合了島津光電發(fā)射光譜儀之精華，突出了高靈敏度、高穩(wěn)定性的特點，尤其在高純有色金屬、鋼鐵中酸溶鋁、夾雜物方面的分析有著獨特的技術。性能特點：1）高分辨率分光器最新設計的1米光柵分光室，可以有效減少元素間的分光干擾。
更新時間:2024-10-21
島津/kratos公司的axissupra+作為高端光電子能譜儀傳承了上一代產品高度智能化的優(yōu)點，將采譜、成像功能與自動化高度相融合，保證了高樣品吞吐量和易用性，為用戶提供了全新無人值守自動化體驗。同時axissupra+對產品硬件進行了相應的改進和擴展，一方面能夠為用戶提供儀器更優(yōu)異的性能，另一方面也為用戶提供了可選的多種拓展技術。
更新時間:2024-10-21
津高分辨率原子力顯微鏡spm-8100fm使用調頻模式，極大提高了信號的靈敏度，是第一款可以在大氣環(huán)境下獲得與真空環(huán)境中同樣超高分辨率表面觀察圖像的產品，無論樣品種類（薄膜、晶體、半導體、有機材料），還是不同環(huán)境（大氣環(huán)境及溶液環(huán)境）。并且首次觀察到固體和液體臨界面（固液界面）的水化、溶劑化現(xiàn)象的圖像，因此實現(xiàn)了對固液界面結構的測量分析。
更新時間:2024-10-21
setsysevolution同步熱分析儀sta是setaram熱分析的旗艦產品！系統(tǒng)高度模塊化，可擴展性極強，滿足各種苛刻條件下的測試需要，如：100%腐蝕性氣氛，氧化/還原性氣氛，及水蒸氣氣氛工作條件。系統(tǒng)采用獨特的上天平、懸掛式載樣設計，單一石墨爐體全程快速升溫，裝配專業(yè)熱分析光電天平，傳感器采用即插即用式接口，加熱爐配備水冷系統(tǒng)。
更新時間:2024-10-21
tg-dta可搭載樣品觀察型電爐，在通過顯微相機觀察升溫過程中樣品變化的同時，可進行高達1,000℃的測量。
更新時間:2024-10-21
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導體器件制作中的一種重要工藝技術；它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜。
更新時間:2024-10-21
leicaemace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設計來根據您的fe-sem和tem應用的需要生產非常薄的，細粒度的和導電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時間:2024-10-21
適合不同電子顯微鏡極靴類型的的eds細管徑設計和優(yōu)化的eds，幾何構型確保了最優(yōu)的信號采集角和檢出角全面的k、l、m和n線系原子數(shù)據庫，完美匹配低電壓分析可定制無窗探測器進一步提高低能端的檢測性能強大的混合脈沖處理器，可輸出計數(shù)率為600kcps易用而強大的esprit軟件。
更新時間:2024-10-21
固體分析分光光度計專家u-4100，實現(xiàn)了進一步的技術提高,uh4150問世！現(xiàn)在，uh4150型分光光度計已經面世，秉承了u-4100的高度可靠性。u-4100已累計發(fā)售1,500*1多臺。特點切換檢測器波長時會產生小的信號差異,即使這樣uh4150也可實現(xiàn)高精度的測定。安裝在積分球上的多個檢測器可在紫外-可見-近紅外的波長范圍內進行測定。
更新時間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis5傅立葉變換紅外光譜儀性能優(yōu)異，適合于產品可靠性測試、質量控制、材料鑒定等分析工作。
更新時間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis50配有專業(yè)化的附件和集成的分析軟件，能夠提供一個真正一體化的材料分析平臺,幫助實驗室工作人員以前所未有的輕松方式來應對在分析領域所遇到的挑戰(zhàn)。
更新時間:2024-10-21
vertex70v光譜儀采用rocksolid?永久準直高性能干涉儀，能滿足從常規(guī)分析測量到高端科研領域的各種應用需求。采用ultrascan?真正準直專利干涉儀的vertex80和vertex80v是針對業(yè)內最前沿的科研應用設計的，它具備極高的光譜分辨率、能實現(xiàn)目前業(yè)內最高水平的快速掃描和步進掃描測量，能在最廣的光譜范圍內提供卓越的性能。vertex70v及vert
更新時間:2024-10-21
nld-3500（a）全自動原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術，具有廣泛的應用。ald原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ald原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ald原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ald原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。
更新時間:2024-10-21
sal-3000ald原子層沉積系統(tǒng)sal3000是一款適用于研究型的ald原子層沉積設備，該設備最多可搭載6路前驅體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
更新時間:2024-10-21
picosun擁有30多年在芬蘭ald反應器制造而得到的專業(yè)技術。tuomosuntola博士，于1974年發(fā)明了ald技術，是picosun董事會的成員。我們的首席技術官svenlindfors從1975年開始連續(xù)的設計ald系統(tǒng)。綜合起來講，picosun擁有了200多年的ald經驗并貢獻了100多項ald專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使picosun成為ald技術優(yōu)質的合作伙伴。技術參
更新時間:2024-10-21
系統(tǒng)中的pecvd可以沉積高質量sio2薄膜、si3n4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。標準配置射頻(rf)，可選用空陰極高密度等離子體(hcd)源、感應耦合等離子體（icp）源。
更新時間:2024-10-21
pe-cvd解決方案與典型cvd反應器相比，等離子體增強型化學氣相沉積(pe-cvd)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案，同時不會降低薄膜質量。高質量的二氧化硅(sio2)膜可以在300℃至350℃沉積，而cvd需要650℃至850℃的溫度生產類似質量的鍍膜。pe-cvd使用電能產生輝光放電(等離子體)，其中能量轉移到氣體混合物中。
更新時間:2024-10-21
parkfx40納米科學研發(fā)界應運而生的的新型全自動原子力顯微鏡該產品可以通過多樣化的應用程序，不費吹灰之力即可獲得最敏銳、最清晰、最高分辨率的掃描圖像。
更新時間:2024-10-21
aperiogt450標記為僅供研究使用，可提供優(yōu)先掃描的連續(xù)機架裝載，僅需32秒即可在病理載玻片上以40x放大率掃描15mm15mm組織區(qū)域，吞吐量為81載玻片/小時。這項新技術允許客戶進行研究以擴大數(shù)字病理學，以滿足不斷增加的滑動量需求。
更新時間:2024-10-21
1.悠久的電子顯微鏡研究及生產歷史zeiss公司具有悠久的電鏡研究、生產歷史，在世界上一直處于地位。當今的zeiss公司納米技術系統(tǒng)分部（thenanotechnologysystemsdivisionofcarlzeisssmt）由德國本部電鏡生產基地和英國劍橋廠及其他配件廠組成。
更新時間:2024-10-21
在以納米技術和生物技術為主的產業(yè)領域里，從物質的微細結構到組成成分，sem在多種多樣的觀察與分析中得到了靈活應用。sem用途日益擴大，但對于鋼鐵等工業(yè)材料和汽車零配件等超大/超重樣品，由于電鏡樣品臺能對應的樣品尺寸和重量受到限制，所以觀察時需要進行切割等加工。因此，對超大樣品不施以加工處理，便可直接觀察表面微細形貌和進行各種分析則成為重要的課題。
更新時間:2024-10-21
rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)sem-raman(risemicroscopy)rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)是一款新穎的顯微鏡技術，在一個集成的顯微鏡系統(tǒng)中結合了共焦拉曼成像和掃描電子顯微鏡技術，這種獨特的組合為顯微鏡用戶對樣品進行綜合表征，提供了明顯的優(yōu)勢。掃描電子顯微鏡是一個很好的表征納米范圍內樣品表面結構的可視化技術，而共焦拉曼成像是表征樣品化學和分子組成的成熟光譜方法。
更新時間:2024-10-21
飛納臺式掃描電鏡1997年fei和飛利浦電子光學宣布合并其全球業(yè)務2008年臺式掃描電子顯微鏡飛納(phenom)進入中國市場2012年飛納(phenom）臺式掃描電鏡全球銷最突破2000臺2013年飛納（phenom)發(fā)布第三代臺式掃描電鏡，放大倍數(shù)10萬倍，分辨率優(yōu)于8nm17世紀荷蘭光學天才:antonivanleeuwenhoek設計并制造世界第一臺光學顯微鏡。
更新時間:2024-10-21
電鏡能譜一體化設計，簡潔小巧phenomprox的能譜儀eds是針對臺式電鏡設計的，本著臺式電鏡簡單易用，售后無憂的宗旨，phenomprox的能譜儀eds系統(tǒng)完全嵌入在電鏡主機中，利用半導體制冷，無需額外冷卻系統(tǒng)。
更新時間:2024-10-21
蔡司gemini系列場發(fā)射掃描電子顯微鏡，具有出色的探測效率，能夠輕松實現(xiàn)亞納米分辨成像，適用于多種材料的高分辨成像與分析。無論是在高真空還是可變真空模式下，對任意樣品進行成像時都具有更高的表面細節(jié)信息，，可獲取各類樣品在微觀世界中清晰、真實的圖像。為生命科學研究、工業(yè)實驗室、成像平臺、高校或研究機構提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微技術與解決方案。
更新時間:2024-10-21
alosl120ctem產品描述talosl120ctem在為模塊化多功能性、最大穩(wěn)定性和操作簡便性而設計的平臺上提供經驗證的最佳成像性能。thermoscientifictmtalostml120ctem通過模塊化設計和改進的光學穩(wěn)定性，從而產生超高的觀測效率、穩(wěn)定的運行時間以及舒適的操作體驗。talosl120ctem是入門級冷凍研究的理想解決方案，簡單的點擊成像，以及用于
更新時間:2024-10-21
日立新一代全數(shù)字化120kv透射電子顯微鏡ht7800，屬于日立瑠璃系列產品rulitem，操作的一體化和自動化程度都有明顯提高。ht7800系列產品有兩個型號ht7800和ht7830。ht7800系列產品的最大特點是采用日立最新設計的第二代雙隙物鏡，很好地繼承了日立120kv-tem的基本理念，兼顧低倍率與寬視野觀察、高襯度與高分辨率觀察，可在同一儀器上一鍵切換等。集高襯度和高
更新時間:2024-10-21
日本電子株式會社2010年7月最新推出了冷場發(fā)射雙球差校正原子分辨和分析型透射電鏡。傳統(tǒng)的冷場發(fā)射技術穩(wěn)定性差，亮度低，無法保證透射電鏡的使用需求。日本電子株式會社最新開發(fā)的冷場發(fā)射技術解決了這些問題，并把該技術加入到最新球差校正透射電鏡arm200f序列里。使arm200f在保證亞納米分辨率0.078nm的同時，能量分辨率提高到0.3ev，極大增強了原子級觀察和原子級分析能力。在美國的第一臺搭載
更新時間:2024-10-21
冷凍電鏡技術獲取生命過程中相關生物機器的結構信息對于充分理解生物學過程和疾病的發(fā)病機制至關重要。值得注意的是，在基礎生物學或疾病發(fā)病機制中起關鍵作用的蛋白質，經常具有多重構象或者與其他蛋白質相互作用形成復合體，這一情況變得日益明顯。這些大的和/或動態(tài)的體系給傳統(tǒng)3d結構解析方法帶來了挑戰(zhàn)。
更新時間:2024-10-21
產品特性：●主要應用領域：高校科研、光學元件生產企業(yè)；●借助參比光束衰減器，可測量超過8.0個吸光度單位(abs)●測量范圍可達175-3300nm—使用pbsmart近紅外檢測器擴展了光度范圍●winuv軟件—模塊化的軟件具有強大的數(shù)據分析、處理與報告導出功能●成套多功能附件—可用于包括鏡面反射和漫反射在內的材料研究●可變狹縫寬度（最小為0.01n
更新時間:2024-10-21
高通量●雙光束光學設計●氙閃光燈無需預熱時間，可進行瞬時測量●需要參比的理想選擇，例如動力學●標配8聯(lián)池●可使用光纖耦合器和探頭在樣品室外進行測量，無需比色皿●與自動進樣器、帕爾貼、智能吸液附件和光纖探頭附件兼容
更新時間:2024-10-21
主要特點如下：1.寬波長范圍190-3300nm,滿足更多測定需求。2.低噪音采用連續(xù)可變狹縫，在近紅外波長區(qū)測定低光量時，自動加寬狹縫；測定高光量時，自動減小狹縫寬度。支持低噪音測定超大范圍波長區(qū)域3.高速掃描采用齒輪驅動，實現(xiàn)了紫外-可見-近紅外區(qū)域的快速掃描。4.低雜散光、超大測光范圍標配新研發(fā)的蝕刻衍射光柵和高光量單色器。5.采用全新控制軟件，操作更加便捷采用uvsolu
更新時間:2024-10-21
主要特點：1、主機：雙光束、雙單色器、比例記錄并由計算機控制的紫外/可見（/近紅外）分光光度計。2、光學系統(tǒng)：整個光學系統(tǒng)全部采用涂有sio2保護層的反射光學元件，全息刻線光柵刻線密度高（紫外/可見為1440條/mm，近紅外360條/mm）；采用先進的四區(qū)分段的扇形信號收集的斬波器，確保了每次得到準確樣品和參比的信號（斬波器運轉期間，樣品和參比的信號分別單獨被各自的黑區(qū)信號所校正，波長精度高：紫外
更新時間:2024-10-21
主要特點：1、軟件系統(tǒng)內置多種分析方法及標準曲線，提供全面解決方案免費提供了各行業(yè)常用的分析方法，點擊相應選項，即可開始試驗，實現(xiàn)真正的智能化分析。
更新時間:2024-10-21
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