大氣顆粒物采樣器產(chǎn)品及廠家
瑞士buchi公司的近紅外技術(shù)給您的整個生產(chǎn)鏈提供了完整的分析測試方案，從進(jìn)廠原料的檢測到生產(chǎn)過程到最終產(chǎn)品的分析測試。
更新時間:2024-10-21
洋光學(xué)oceanhdxraman是款專門為785nm拉曼應(yīng)用而設(shè)計的微型光纖光譜儀，可覆蓋150cm-1-3400cm-1的測景范圍。
更新時間:2024-10-21
hr4000cg復(fù)合光柵光譜儀采用專利光柵技術(shù)并使用濾光片消除二三級衍射的影響，從而達(dá)到200-1100nm波長范圍和0.75nm光學(xué)分辨率(fwhm)。hr4000cg光譜儀采用預(yù)配置設(shè)計-所有的光學(xué)平臺選件都為您預(yù)先選定。
更新時間:2024-10-21
便攜式近紅外光譜儀flame-nir光纖光譜儀是海洋光學(xué)較小的近紅外光譜儀。結(jié)合帶有新型非冷卻ingaas探測器的小尺寸flame光具座，flame-nir光譜儀在近紅外光譜方面開拓了一個全新的領(lǐng)域。由于無需tec冷卻，flame-nir的功耗需求超低，使得它非常適合整合到手持式系統(tǒng)和便攜系統(tǒng)。flame-nir具有flame系列產(chǎn)品的所有優(yōu)勢，包括可互換狹縫和低的臺間差。flame-nir光
更新時間:2024-10-21
如果您應(yīng)用nir光譜在研究，診斷或過程控制中的話，海洋光學(xué)nirquest近紅外光纖光譜儀將是一個低成本，方便的選擇，可取代ft-ir或同類技術(shù)的系統(tǒng)。nirquest光譜儀采用高性能的光學(xué)平臺，具有較低的電子噪聲和多個光柵的選擇。
更新時間:2024-10-21
在可見光至近紅外波段，地表物體自身的熱輻射幾乎為零。地物發(fā)出的波譜主要以反射太陽輻射為主。地物光譜測量是依據(jù)地球表面物體對可見光和近紅外光的反射特性對物體做定性或定量分析的方法。用于測量、采集、分析地表物體在野外自然條件下的反射率的光譜儀器我們稱之為地物光譜儀。海洋光學(xué)現(xiàn)推出fs1100手持式地物光纖光譜儀,專用于地表特征反射光譜的測量。可實現(xiàn)快速、準(zhǔn)確、無損且非接觸式光譜測量。
更新時間:2024-10-21
mpaii是布魯克光譜部門集近40年設(shè)計和生產(chǎn)ftir和ft-nir光譜儀經(jīng)驗的結(jié)晶，該儀器具有強(qiáng)大的擴(kuò)展靈活性和優(yōu)越的性能，為ft-nir分析儀器樹立了新的標(biāo)準(zhǔn)。其高性能的附件和靈活的操作性，成為實驗室和過程分析開發(fā)各種方法不可缺少的強(qiáng)有力工具，能夠最大程度的滿足不同用戶科研和生產(chǎn)qa/qc的需求。采用模塊化設(shè)計，可以針對每個分析任務(wù)進(jìn)行單獨配置。卓越的擴(kuò)展性能在有特定
更新時間:2024-10-21
用于沉積納米級薄膜、納米粉末包覆、長深孔樣品鍍膜;具有thermal-ald、peald、particle-ald和生產(chǎn)型ald;具備近100種膜層工藝。應(yīng)用領(lǐng)域：芯片封裝、半導(dǎo)體high-k介電層、納米涂層、3d涂層、鋰電池、催化劑、太陽能電池、5g通訊（saw器件）、生物醫(yī)學(xué)仿生、熒光材料、oled顯示、有機(jī)材料、電子電路、光學(xué)膜等。
更新時間:2024-10-21
美國creativedesignengineering,簡稱“cde”，成立于1995年，位于美國加州硅谷的庫比蒂諾-cupertino,cde公司專注于四探針設(shè)備的生產(chǎn)和銷售，累計銷量達(dá)1000臺以上，遍布世界各大半導(dǎo)體fab,太陽能光伏企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)，“cde”是四探針領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)品牌。
更新時間:2024-10-21
美國fourdimensions,inc,簡稱“4d”，成立于1978年，位于美國加州硅谷的hayward,4d公司專注于四探針設(shè)備和cv儀的生產(chǎn)和銷售，累計銷量達(dá)800臺以上，遍布世界各大半導(dǎo)體fab,太陽能光伏企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)。
更新時間:2024-10-21
nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。
更新時間:2024-10-21
激光分子束外延(lasermbe)是上個世紀(jì)90年代發(fā)展起來的一種新型高精密制膜技術(shù)，它集pld的制膜特點和傳統(tǒng)mbe的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位實時監(jiān)控為一體，除保持了pld方法制備的膜系寬，還可以生長通常的半導(dǎo)體超晶格材料，特別適合生長多元素、高熔點、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜，如超導(dǎo)體、光學(xué)晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機(jī)高分子等。
更新時間:2024-10-21
基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(maple)是pld的一種變體。這是由nrl集團(tuán)新引入的技術(shù)，以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積。基于uv(5-6ev)的傳統(tǒng)pld技術(shù)中，光化學(xué)反應(yīng)可能會惡化有機(jī)分子、聚合物等的功能。而在maple中，通過將待沉積的有機(jī)物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質(zhì))混合來制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。
更新時間:2024-10-21
1.ald(傳統(tǒng)的熱原子層沉積)；2.peald(等離子增強(qiáng)原子層沉積)；3.powderald(粉末樣品的原子層沉積)；儀器簡介：原子層沉積（atomiclayerdeposition，ald），也稱為原子層外延（atomiclayerepitaxy，ale），或原子層化學(xué)氣相沉積（atomiclayerchemicalvapordeposition。
更新時間:2024-10-21
特點：?用于耐刻蝕工藝、電鍍、liga、mems等?感光波段：broadbanduv、i-line(365nm)g-line(436nm)、e-beam、x-ray、synchrotron?涂膠厚度從幾微米到上百微米不等?覆蓋能力強(qiáng)，分辨率高，圖形邊緣結(jié)構(gòu)陡直?化學(xué)放大膠，具有非常高的靈敏度?可得到undercut結(jié)構(gòu)，用于lift-off工藝?可替代su8膠。
更新時間:2024-10-21
特點：?用于消除電子束曝光、sem成像、fib等工藝中的荷電效應(yīng)?通過旋涂的方式涂膠，操作簡單?涂膠厚度：40nm@4000rpm?電子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不損傷襯底材料?對紫外光、電子束不敏感，無需黃光室5090.02，適于pmma、csar62、hsq等。
更新時間:2024-10-21
特點：?紫外負(fù)膠（厚膠），適用于liga及mems應(yīng)用?涂膠厚度10μm@1000rpm，可提供更高厚度（200μm）?sxar-n4600-10:結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性好、重復(fù)性好，厚度可達(dá)幾百微米，適用于永久保留膠體結(jié)構(gòu)的應(yīng)用?sxar-n4650-10:容易去膠，適合于電鑄工藝
更新時間:2024-10-21
刻膠（resist）概述光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用于集成電路(ic)，封裝(packaging)，微機(jī)電系統(tǒng)(mems)，光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板顯示器(led,lcd,oled)，太陽能
更新時間:2024-10-21
pda-8000是島津公司2010年推出的最新一款光電發(fā)射光譜儀，集合了島津光電發(fā)射光譜儀之精華，突出了高靈敏度、高穩(wěn)定性的特點，尤其在高純有色金屬、鋼鐵中酸溶鋁、夾雜物方面的分析有著獨特的技術(shù)。性能特點：1）高分辨率分光器最新設(shè)計的1米光柵分光室，可以有效減少元素間的分光干擾。
更新時間:2024-10-21
島津/kratos公司的axissupra+作為高端光電子能譜儀傳承了上一代產(chǎn)品高度智能化的優(yōu)點，將采譜、成像功能與自動化高度相融合，保證了高樣品吞吐量和易用性，為用戶提供了全新無人值守自動化體驗。同時axissupra+對產(chǎn)品硬件進(jìn)行了相應(yīng)的改進(jìn)和擴(kuò)展，一方面能夠為用戶提供儀器更優(yōu)異的性能，另一方面也為用戶提供了可選的多種拓展技術(shù)。
更新時間:2024-10-21
津高分辨率原子力顯微鏡spm-8100fm使用調(diào)頻模式，極大提高了信號的靈敏度，是第一款可以在大氣環(huán)境下獲得與真空環(huán)境中同樣超高分辨率表面觀察圖像的產(chǎn)品，無論樣品種類（薄膜、晶體、半導(dǎo)體、有機(jī)材料），還是不同環(huán)境（大氣環(huán)境及溶液環(huán)境）。并且首次觀察到固體和液體臨界面（固液界面）的水化、溶劑化現(xiàn)象的圖像，因此實現(xiàn)了對固液界面結(jié)構(gòu)的測量分析。
更新時間:2024-10-21
setsysevolution同步熱分析儀sta是setaram熱分析的旗艦產(chǎn)品！系統(tǒng)高度模塊化，可擴(kuò)展性極強(qiáng)，滿足各種苛刻條件下的測試需要，如：100%腐蝕性氣氛，氧化/還原性氣氛，及水蒸氣氣氛工作條件。系統(tǒng)采用獨特的上天平、懸掛式載樣設(shè)計，單一石墨爐體全程快速升溫，裝配專業(yè)熱分析光電天平，傳感器采用即插即用式接口，加熱爐配備水冷系統(tǒng)。
更新時間:2024-10-21
tg-dta可搭載樣品觀察型電爐，在通過顯微相機(jī)觀察升溫過程中樣品變化的同時，可進(jìn)行高達(dá)1,000℃的測量。
更新時間:2024-10-21
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)；它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜。
更新時間:2024-10-21
leicaemace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計來根據(jù)您的fe-sem和tem應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細(xì)粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時間:2024-10-21
適合不同電子顯微鏡極靴類型的的eds細(xì)管徑設(shè)計和優(yōu)化的eds，幾何構(gòu)型確保了最優(yōu)的信號采集角和檢出角全面的k、l、m和n線系原子數(shù)據(jù)庫，完美匹配低電壓分析可定制無窗探測器進(jìn)一步提高低能端的檢測性能強(qiáng)大的混合脈沖處理器，可輸出計數(shù)率為600kcps易用而強(qiáng)大的esprit軟件。
更新時間:2024-10-21
固體分析分光光度計專家u-4100，實現(xiàn)了進(jìn)一步的技術(shù)提高,uh4150問世！現(xiàn)在，uh4150型分光光度計已經(jīng)面世，秉承了u-4100的高度可靠性。u-4100已累計發(fā)售1,500*1多臺。特點切換檢測器波長時會產(chǎn)生小的信號差異,即使這樣uh4150也可實現(xiàn)高精度的測定。安裝在積分球上的多個檢測器可在紫外-可見-近紅外的波長范圍內(nèi)進(jìn)行測定。
更新時間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis5傅立葉變換紅外光譜儀性能優(yōu)異，適合于產(chǎn)品可靠性測試、質(zhì)量控制、材料鑒定等分析工作。
更新時間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis50配有專業(yè)化的附件和集成的分析軟件，能夠提供一個真正一體化的材料分析平臺,幫助實驗室工作人員以前所未有的輕松方式來應(yīng)對在分析領(lǐng)域所遇到的挑戰(zhàn)。
更新時間:2024-10-21
vertex70v光譜儀采用rocksolid?永久準(zhǔn)直高性能干涉儀，能滿足從常規(guī)分析測量到高端科研領(lǐng)域的各種應(yīng)用需求。采用ultrascan?真正準(zhǔn)直專利干涉儀的vertex80和vertex80v是針對業(yè)內(nèi)最前沿的科研應(yīng)用設(shè)計的，它具備極高的光譜分辨率、能實現(xiàn)目前業(yè)內(nèi)最高水平的快速掃描和步進(jìn)掃描測量，能在最廣的光譜范圍內(nèi)提供卓越的性能。vertex70v及vert
更新時間:2024-10-21
nld-3500（a）全自動原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ald原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ald原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ald原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ald原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。
更新時間:2024-10-21
sal-3000ald原子層沉積系統(tǒng)sal3000是一款適用于研究型的ald原子層沉積設(shè)備，該設(shè)備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
更新時間:2024-10-21
picosun擁有30多年在芬蘭ald反應(yīng)器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。tuomosuntola博士，于1974年發(fā)明了ald技術(shù)，是picosun董事會的成員。我們的首席技術(shù)官svenlindfors從1975年開始連續(xù)的設(shè)計ald系統(tǒng)。綜合起來講，picosun擁有了200多年的ald經(jīng)驗并貢獻(xiàn)了100多項ald專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使picosun成為ald技術(shù)優(yōu)質(zhì)的合作伙伴。技術(shù)參
更新時間:2024-10-21
系統(tǒng)中的pecvd可以沉積高質(zhì)量sio2薄膜、si3n4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻(rf)，可選用空陰極高密度等離子體(hcd)源、感應(yīng)耦合等離子體（icp）源。
更新時間:2024-10-21
pe-cvd解決方案與典型cvd反應(yīng)器相比，等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積(pe-cvd)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案，同時不會降低薄膜質(zhì)量。高質(zhì)量的二氧化硅(sio2)膜可以在300℃至350℃沉積，而cvd需要650℃至850℃的溫度生產(chǎn)類似質(zhì)量的鍍膜。pe-cvd使用電能產(chǎn)生輝光放電(等離子體)，其中能量轉(zhuǎn)移到氣體混合物中。
更新時間:2024-10-21
parkfx40納米科學(xué)研發(fā)界應(yīng)運而生的的新型全自動原子力顯微鏡該產(chǎn)品可以通過多樣化的應(yīng)用程序，不費吹灰之力即可獲得最敏銳、最清晰、最高分辨率的掃描圖像。
更新時間:2024-10-21
aperiogt450標(biāo)記為僅供研究使用，可提供優(yōu)先掃描的連續(xù)機(jī)架裝載，僅需32秒即可在病理載玻片上以40x放大率掃描15mm15mm組織區(qū)域，吞吐量為81載玻片/小時。這項新技術(shù)允許客戶進(jìn)行研究以擴(kuò)大數(shù)字病理學(xué)，以滿足不斷增加的滑動量需求。
更新時間:2024-10-21
1.悠久的電子顯微鏡研究及生產(chǎn)歷史zeiss公司具有悠久的電鏡研究、生產(chǎn)歷史，在世界上一直處于地位。當(dāng)今的zeiss公司納米技術(shù)系統(tǒng)分部（thenanotechnologysystemsdivisionofcarlzeisssmt）由德國本部電鏡生產(chǎn)基地和英國劍橋廠及其他配件廠組成。
更新時間:2024-10-21
在以納米技術(shù)和生物技術(shù)為主的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域里，從物質(zhì)的微細(xì)結(jié)構(gòu)到組成成分，sem在多種多樣的觀察與分析中得到了靈活應(yīng)用。sem用途日益擴(kuò)大，但對于鋼鐵等工業(yè)材料和汽車零配件等超大/超重樣品，由于電鏡樣品臺能對應(yīng)的樣品尺寸和重量受到限制，所以觀察時需要進(jìn)行切割等加工。因此，對超大樣品不施以加工處理，便可直接觀察表面微細(xì)形貌和進(jìn)行各種分析則成為重要的課題。
更新時間:2024-10-21
rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)sem-raman(risemicroscopy)rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)是一款新穎的顯微鏡技術(shù)，在一個集成的顯微鏡系統(tǒng)中結(jié)合了共焦拉曼成像和掃描電子顯微鏡技術(shù)，這種獨特的組合為顯微鏡用戶對樣品進(jìn)行綜合表征，提供了明顯的優(yōu)勢。掃描電子顯微鏡是一個很好的表征納米范圍內(nèi)樣品表面結(jié)構(gòu)的可視化技術(shù)，而共焦拉曼成像是表征樣品化學(xué)和分子組成的成熟光譜方法。
更新時間:2024-10-21
飛納臺式掃描電鏡1997年fei和飛利浦電子光學(xué)宣布合并其全球業(yè)務(wù)2008年臺式掃描電子顯微鏡飛納(phenom)進(jìn)入中國市場2012年飛納(phenom）臺式掃描電鏡全球銷最突破2000臺2013年飛納（phenom)發(fā)布第三代臺式掃描電鏡，放大倍數(shù)10萬倍，分辨率優(yōu)于8nm17世紀(jì)荷蘭光學(xué)天才:antonivanleeuwenhoek設(shè)計并制造世界第一臺光學(xué)顯微鏡。
更新時間:2024-10-21
電鏡能譜一體化設(shè)計，簡潔小巧phenomprox的能譜儀eds是針對臺式電鏡設(shè)計的，本著臺式電鏡簡單易用，售后無憂的宗旨，phenomprox的能譜儀eds系統(tǒng)完全嵌入在電鏡主機(jī)中，利用半導(dǎo)體制冷，無需額外冷卻系統(tǒng)。
更新時間:2024-10-21
蔡司gemini系列場發(fā)射掃描電子顯微鏡，具有出色的探測效率，能夠輕松實現(xiàn)亞納米分辨成像，適用于多種材料的高分辨成像與分析。無論是在高真空還是可變真空模式下，對任意樣品進(jìn)行成像時都具有更高的表面細(xì)節(jié)信息，，可獲取各類樣品在微觀世界中清晰、真實的圖像。為生命科學(xué)研究、工業(yè)實驗室、成像平臺、高校或研究機(jī)構(gòu)提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微技術(shù)與解決方案。
更新時間:2024-10-21
alosl120ctem產(chǎn)品描述talosl120ctem在為模塊化多功能性、最大穩(wěn)定性和操作簡便性而設(shè)計的平臺上提供經(jīng)驗證的最佳成像性能。thermoscientifictmtalostml120ctem通過模塊化設(shè)計和改進(jìn)的光學(xué)穩(wěn)定性，從而產(chǎn)生超高的觀測效率、穩(wěn)定的運行時間以及舒適的操作體驗。talosl120ctem是入門級冷凍研究的理想解決方案，簡單的點擊成像，以及用于
更新時間:2024-10-21
日立新一代全數(shù)字化120kv透射電子顯微鏡ht7800，屬于日立瑠璃系列產(chǎn)品rulitem，操作的一體化和自動化程度都有明顯提高。ht7800系列產(chǎn)品有兩個型號ht7800和ht7830。ht7800系列產(chǎn)品的最大特點是采用日立最新設(shè)計的第二代雙隙物鏡，很好地繼承了日立120kv-tem的基本理念，兼顧低倍率與寬視野觀察、高襯度與高分辨率觀察，可在同一儀器上一鍵切換等。集高襯度和高
更新時間:2024-10-21
日本電子株式會社2010年7月最新推出了冷場發(fā)射雙球差校正原子分辨和分析型透射電鏡。傳統(tǒng)的冷場發(fā)射技術(shù)穩(wěn)定性差，亮度低，無法保證透射電鏡的使用需求。日本電子株式會社最新開發(fā)的冷場發(fā)射技術(shù)解決了這些問題，并把該技術(shù)加入到最新球差校正透射電鏡arm200f序列里。使arm200f在保證亞納米分辨率0.078nm的同時，能量分辨率提高到0.3ev，極大增強(qiáng)了原子級觀察和原子級分析能力。在美國的第一臺搭載
更新時間:2024-10-21
冷凍電鏡技術(shù)獲取生命過程中相關(guān)生物機(jī)器的結(jié)構(gòu)信息對于充分理解生物學(xué)過程和疾病的發(fā)病機(jī)制至關(guān)重要。值得注意的是，在基礎(chǔ)生物學(xué)或疾病發(fā)病機(jī)制中起關(guān)鍵作用的蛋白質(zhì)，經(jīng)常具有多重構(gòu)象或者與其他蛋白質(zhì)相互作用形成復(fù)合體，這一情況變得日益明顯。這些大的和/或動態(tài)的體系給傳統(tǒng)3d結(jié)構(gòu)解析方法帶來了挑戰(zhàn)。
更新時間:2024-10-21
產(chǎn)品特性：●主要應(yīng)用領(lǐng)域：高校科研、光學(xué)元件生產(chǎn)企業(yè)；●借助參比光束衰減器，可測量超過8.0個吸光度單位(abs)●測量范圍可達(dá)175-3300nm—使用pbsmart近紅外檢測器擴(kuò)展了光度范圍●winuv軟件—模塊化的軟件具有強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析、處理與報告導(dǎo)出功能●成套多功能附件—可用于包括鏡面反射和漫反射在內(nèi)的材料研究●可變狹縫寬度（最小為0.01n
更新時間:2024-10-21
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