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光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家

美國(guó)SONIX 晶圓檢測(cè)設(shè)備
美國(guó)sonix 晶圓檢測(cè)設(shè)備 autowafe pro.為全自動(dòng)晶圓檢測(cè)設(shè)計(jì)的機(jī)型,主要應(yīng)用在bond wafer,mems 內(nèi)部空洞、離層檢測(cè),tsv量測(cè)方面。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)泰克TEK Keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀
美國(guó)泰克tek keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀4200a-scs ,加快半導(dǎo)體設(shè)備、材料和工藝開(kāi)發(fā)的探索、可靠性和故障分析研究。 業(yè)內(nèi)領(lǐng)先性能參數(shù)分析儀,提供同步電流-電壓 (i-v)、電容-電壓 (c-v) 和超快脈沖 i-v 測(cè)量。
更新時(shí)間:2024-10-23
瑞士Nanosurf 原子力顯微鏡
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ,非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來(lái)實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶(hù)方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.
更新時(shí)間:2024-10-23
韓國(guó)Ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)
韓國(guó)ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000,hms5000,用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性,可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類(lèi)型。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó) MMR 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)
美國(guó) mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000,用于研究光電材料的電學(xué)特性,利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類(lèi)型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。
更新時(shí)間:2024-10-23
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007,emp100c,emp100b,emp50s
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Mecwins 掃描式激光分析儀
德國(guó)mecwins 掃描式激光分析儀scala,它是用激光入射掃描樣品表面,收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)NANOVEA三維表面形貌儀
美國(guó)nanovea三維表面形貌儀hs1000型,是一款高速的三維形貌儀,最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國(guó)際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù),可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試,具有測(cè)量精度高,速度快,重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn),該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)YXLON 高分辨率X射線檢測(cè)設(shè)備
德國(guó) yxlon 高分辨率x射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器(標(biāo)配) y.cheetah 高速平板探測(cè)器(標(biāo)配)
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)Royec芯片拾取及放置系統(tǒng)
美國(guó)royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)Royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)
美國(guó)royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面,側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)RTI自動(dòng)特性圖示儀
美國(guó)rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer,是一個(gè)性?xún)r(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel,提供4種型號(hào)可供客戶(hù)選擇,mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性,功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣,mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專(zhuān)用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Klocke Nanotech  3D納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x
德國(guó)klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger,是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸,表面輪廓、粗糙度等,并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合,進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本A&D粒子計(jì)數(shù)器(粒度計(jì))
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器(粒度計(jì))sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)Filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
美國(guó)filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20,f30,f40,f50,f60,f3-xxt 系列,臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó) SONIX 超聲波掃描顯微鏡
美國(guó) sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專(zhuān)為更高精度要求,更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無(wú)需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀
德國(guó)bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Bruker FT-NIR光譜儀
德國(guó)bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥,食品,農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無(wú)破壞性,不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品,使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2024-10-23
德Bruker光學(xué)輪廓儀
德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Sentech 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具,是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率,厚度,折射率),在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)OGP光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x
美國(guó)ogp光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x zip 250 ,5:1 accucentric 電動(dòng)變焦透鏡,在每次放大變倍時(shí)自動(dòng)校準(zhǔn),可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時(shí)間:2024-10-23
接觸角測(cè)定儀
jy—pha接觸角測(cè)定儀,用于液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性,通過(guò)測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角、計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力,張力及固體表面能等指標(biāo)。
更新時(shí)間:2024-10-23
接觸角測(cè)量?jī)x
100標(biāo)準(zhǔn)型接觸角測(cè)量?jī)x,采用高性能日本原裝進(jìn)口工業(yè)機(jī)芯,工業(yè)級(jí)連續(xù)變倍顯微鏡,確保圖像的真實(shí)性,獲取最佳的成像效果。
更新時(shí)間:2024-10-23
美Associated 耐壓測(cè)試儀​
美associated 耐壓測(cè)試儀​hypotmax 7710 ,是一款12 kvdc hipot測(cè)試儀,用于為電纜、電線、線束和電氣元件測(cè)試提供高直流輸出電壓。該產(chǎn)品非常易于使用,并為安全有效的測(cè)試提供了各種特性。它有專(zhuān)利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統(tǒng)。最后,該系統(tǒng)具有遠(yuǎn)程安全聯(lián)鎖和數(shù)控電弧檢測(cè)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-10-23
美Montana超精細(xì)多功能無(wú)液氦低溫光學(xué)恒溫器
montana 新型超精細(xì)多功能無(wú)液氦低溫光學(xué)恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環(huán)的制冷系統(tǒng)只需要極少量的氦氣即可讓系統(tǒng)達(dá)到極限低溫。系統(tǒng)具有超快降溫、超低震動(dòng)和超高的溫度穩(wěn)定性。全自動(dòng)化的控制軟件,簡(jiǎn)化了用戶(hù)的操作流程。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡
德國(guó)attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無(wú)磁性材料制備的高數(shù)值孔徑(na)共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來(lái)滿(mǎn)足odmr實(shí)驗(yàn)的需求。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)sinton少子壽命測(cè)試儀
sinton少子壽命測(cè)試儀wct-120,suns-voc,硅片少子壽命測(cè)試系統(tǒng),采用了獨(dú)特的測(cè)量和分析技術(shù),包括準(zhǔn)穩(wěn)定態(tài)光電導(dǎo)(qsspc)測(cè)量方法。可靈敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)等缺陷情況。
更新時(shí)間:2024-10-23
布魯克Bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿(mǎn)足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2024-10-23
布魯克Bruker 三維光學(xué)輪廓儀
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀,靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2024-10-23
布魯克臺(tái)階儀-探針式表面輪廓儀
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀(探針式表面輪廓儀)設(shè)計(jì)創(chuàng)新,實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率,垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀(探針式表面輪廓儀)的技術(shù)突破,實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量,從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件,半導(dǎo)體,電池,高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b,可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍,可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
美AZ太陽(yáng)能吸收率發(fā)射率測(cè)量?jī)x
美az 總輻射度/太陽(yáng)能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000,根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽(yáng)吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊,輕巧,堅(jiān)固耐用,符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì),便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kl-28b/28bf( 光散射法),粒徑范圍(2個(gè)通道):≥0.2μm, ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度:1 200 顆/l (誤差值低于5%)
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION 液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀:ks-16/16f ( 光散射法), 大粒子數(shù)濃度:1 200 顆/l (誤差值低于5%), 粒徑范圍(5個(gè)通道):≥0.1μm, ≥0.15μm , ≥0.2μm , ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION 液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀:ks-17b ( 光散射法),純水用,大粒子數(shù)濃度:100 000 顆/ml (誤差值低于5%),粒徑范圍(2個(gè)通道):≥0.05μm, ≥0.1μm (4通道需工廠定制)
更新時(shí)間:2024-10-23
日本理音RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍,可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法),液體粒子計(jì)數(shù)器,可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。可測(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用),可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍(4個(gè)通道,出廠默認(rèn)):≥0.15μm, ≥0.2μm , ≥0.3μm , ≥0.5μm
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀:ks-18f ( 光散射法)液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍,可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法),可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法),寬廣的測(cè)試范圍,可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法),寬廣的測(cè)試范圍,可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本理音RION粒子計(jì)數(shù)器
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f,檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒,從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2024-10-23
日本理音RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法),液體粒子計(jì)數(shù)器,測(cè)試粒徑(5個(gè)通道):≥0.3μm, ≥0.5μm , ≥1μm , ≥2μm, ≥5μm
更新時(shí)間:2024-10-23
日本理音RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法),測(cè)試粒徑(5個(gè)通道):≥0.3μm, ≥0.5μm , ≥1μm , ≥2μm, ≥5μm
更新時(shí)間:2024-10-23
OAI UV METER
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)NETZSCH 閃射法導(dǎo)熱儀
lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀,自由選擇測(cè)試氣氛,優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源,16位自動(dòng)進(jìn)樣器,高的測(cè)量效率,寬廣的溫度范圍,靈活配備冷卻系統(tǒng),設(shè)計(jì)獨(dú)特,性能優(yōu)異,配備氙燈光源的,高溫測(cè)試系統(tǒng),寬廣的溫度范圍,真空密閉爐體,確保氣氛純凈,防止氧化,內(nèi)置微型管式爐,更高的測(cè)量效率,高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)NETZSCH差示掃描量熱儀
差示掃描量熱儀dsc 300 ,是全面、可靠的dsc儀器系列,表征材料熱性能游刃有余。
更新時(shí)間:2024-10-23
紫外差分煙氣分析儀
gr-3028型紫外煙氣綜合分析儀(以下簡(jiǎn)稱(chēng)分析儀)以紫外差分吸收光譜技術(shù)為核心的新型產(chǎn)品,主要用于排氣管道中有害氣體成分的測(cè)量,廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)以及熱工參數(shù)測(cè)量等部門(mén)。該分析儀性能指標(biāo)均符合國(guó)家環(huán)保局頒布的煙氣測(cè)試儀的有關(guān)規(guī)定。采用紫外差分吸收光譜技術(shù)和化學(xué)計(jì)量學(xué)算法測(cè)量so2/no/no2/o2/co/co2等氣體的濃度,不受煙氣中水蒸氣影響,具有較高
更新時(shí)間:2024-10-22

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