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光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家

德國(guó)Optosol 涂層吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀
德國(guó)optosol r1 涂層吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，用于測(cè)量管狀或平面太陽(yáng)能吸收涂層的定向熱發(fā)射度，其基礎(chǔ)是測(cè)量來(lái)自擴(kuò)展熱源的紅外輻射的反射率操作溫度:70 - 90°c
更新時(shí)間:2024-10-23
德Optosol太陽(yáng)能吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀
德optosol-k3 太陽(yáng)能吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，k3型發(fā)射率檢測(cè)儀由一個(gè)被加熱到70℃的發(fā)光體（作為熱輻射源）和三個(gè)對(duì)波長(zhǎng)在8-14μm范圍的光線敏感的探測(cè)器組成。 來(lái)自發(fā)光體的輻射均勻分布在用作漫射輻射源的積分球內(nèi)。檢測(cè)器以與樣品表面法線成12°的角度安裝。被測(cè)量的是由樣品反射回來(lái)的輻射。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Optosol 太陽(yáng)能平板集熱器膜層吸收與發(fā)射率快速測(cè)量?jī)x
optosol absorber control k1 太陽(yáng)能平板集熱器膜層吸收與發(fā)射率快速測(cè)量?jī)x，
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)OAI標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)能模擬器
trisol aaa美國(guó)oai標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)能模擬器，低成本，標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器提供高度準(zhǔn)直，均勻的光，幾乎任何材料或產(chǎn)品暴露在陽(yáng)光下長(zhǎng)時(shí)間或短時(shí)間的基本測(cè)試。根據(jù)配置，這些太陽(yáng)能模擬器的輸出功率為350w-5,000w。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)OAI太陽(yáng)能模擬器
tss-52,tss-100,tss-156,tss-208,tss-300美國(guó)oai太陽(yáng)能模擬器，這些模擬器,取決于配置、輸出額定350 w -5000 w。oai 3 a太陽(yáng)模擬器可以提供一個(gè)范圍的空氣質(zhì)量過(guò)濾器復(fù)制太陽(yáng)能模擬太陽(yáng)的光譜。目的探明oai透鏡和鏡像技術(shù)可以使一個(gè)廣泛的接觸區(qū)域。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó) D&S 發(fā)射率測(cè)量?jī)x
美國(guó) d&s 發(fā)射率測(cè)量?jī)x ae1/rd1，是專門(mén)針對(duì)測(cè)量物體的輻射率設(shè)計(jì)的，ae1測(cè)量樣品最小直徑為2.25英寸（5.7cm）。可選附件ae-ad1和ae-ad3探測(cè)頭能使測(cè)量樣品最小直徑為1.0英（2.54cm），可以為圓柱形表面和幾乎任何幾何形狀面需求的客戶提供定制探頭。對(duì)小直徑圓柱形面樣品測(cè)量，可以測(cè)量平行放置的多個(gè)樣品。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)SONIX 晶圓檢測(cè)設(shè)備
美國(guó)sonix 晶圓檢測(cè)設(shè)備 autowafe pro.為全自動(dòng)晶圓檢測(cè)設(shè)計(jì)的機(jī)型，主要應(yīng)用在bond wafer，mems 內(nèi)部空洞、離層檢測(cè)，tsv量測(cè)方面。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)泰克TEK Keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀
美國(guó)泰克tek keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀4200a-scs ，加快半導(dǎo)體設(shè)備、材料和工藝開(kāi)發(fā)的探索、可靠性和故障分析研究。 業(yè)內(nèi)領(lǐng)先性能參數(shù)分析儀，提供同步電流-電壓 (i-v)、電容-電壓 (c-v) 和超快脈沖 i-v 測(cè)量。
更新時(shí)間:2024-10-23
瑞士Nanosurf 原子力顯微鏡
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來(lái)實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.
更新時(shí)間:2024-10-23
韓國(guó)Ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)
韓國(guó)ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000，hms5000，用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性，可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó) MMR 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)
美國(guó) mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000，用于研究光電材料的電學(xué)特性，利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。
更新時(shí)間:2024-10-23
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007，emp100c，emp100b，emp50s
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Mecwins 掃描式激光分析儀
德國(guó)mecwins 掃描式激光分析儀scala，它是用激光入射掃描樣品表面，收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)NANOVEA三維表面形貌儀
美國(guó)nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國(guó)際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)YXLON 高分辨率Ｘ射線檢測(cè)設(shè)備
德國(guó) yxlon 高分辨率ｘ射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器（標(biāo)配） y.cheetah 高速平板探測(cè)器（標(biāo)配）
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)Royec芯片拾取及放置系統(tǒng)
美國(guó)royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)Royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)
美國(guó)royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)RTI自動(dòng)特性圖示儀
美國(guó)rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性價(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Klocke Nanotech 3D納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x
德國(guó)klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本A&D粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)Filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
美國(guó)filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó) SONIX 超聲波掃描顯微鏡
美國(guó) sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無(wú)需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀
德國(guó)bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Bruker FT-NIR光譜儀
德國(guó)bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無(wú)破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2024-10-23
德Bruker光學(xué)輪廓儀
德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Sentech 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)OGP光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x
美國(guó)ogp光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x zip 250 ，5:1 accucentric 電動(dòng)變焦透鏡，在每次放大變倍時(shí)自動(dòng)校準(zhǔn)，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時(shí)間:2024-10-23
接觸角測(cè)定儀
jy—pha接觸角測(cè)定儀，用于液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，通過(guò)測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角、計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力，張力及固體表面能等指標(biāo)。
更新時(shí)間:2024-10-23
接觸角測(cè)量?jī)x
100標(biāo)準(zhǔn)型接觸角測(cè)量?jī)x，采用高性能日本原裝進(jìn)口工業(yè)機(jī)芯，工業(yè)級(jí)連續(xù)變倍顯微鏡，確保圖像的真實(shí)性，獲取最佳的成像效果。
更新時(shí)間:2024-10-23
美Associated 耐壓測(cè)試儀​
美associated 耐壓測(cè)試儀​hypotmax 7710 ，是一款12 kvdc hipot測(cè)試儀，用于為電纜、電線、線束和電氣元件測(cè)試提供高直流輸出電壓。該產(chǎn)品非常易于使用，并為安全有效的測(cè)試提供了各種特性。它有專利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統(tǒng)。最后，該系統(tǒng)具有遠(yuǎn)程安全聯(lián)鎖和數(shù)控電弧檢測(cè)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-10-23
美Montana超精細(xì)多功能無(wú)液氦低溫光學(xué)恒溫器
montana 新型超精細(xì)多功能無(wú)液氦低溫光學(xué)恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環(huán)的制冷系統(tǒng)只需要極少量的氦氣即可讓系統(tǒng)達(dá)到極限低溫。系統(tǒng)具有超快降溫、超低震動(dòng)和超高的溫度穩(wěn)定性。全自動(dòng)化的控制軟件，簡(jiǎn)化了用戶的操作流程。
更新時(shí)間:2024-10-23
德國(guó)Attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡
德國(guó)attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無(wú)磁性材料制備的高數(shù)值孔徑（na）共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來(lái)滿足odmr實(shí)驗(yàn)的需求。
更新時(shí)間:2024-10-23
美國(guó)sinton少子壽命測(cè)試儀
sinton少子壽命測(cè)試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測(cè)試系統(tǒng)，采用了獨(dú)特的測(cè)量和分析技術(shù)，包括準(zhǔn)穩(wěn)定態(tài)光電導(dǎo)(qsspc)測(cè)量方法。可靈敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)等缺陷情況。
更新時(shí)間:2024-10-23
布魯克Bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2024-10-23
布魯克Bruker 三維光學(xué)輪廓儀
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2024-10-23
布魯克臺(tái)階儀-探針式表面輪廓儀
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b，可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
美AZ太陽(yáng)能吸收率發(fā)射率測(cè)量?jī)x
美az 總輻射度/太陽(yáng)能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000，根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽(yáng)吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊，輕巧，堅(jiān)固耐用，符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION 液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION 液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時(shí)間:2024-10-23
日本理音RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f，寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。可測(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-10-23
日本理音RION粒子計(jì)數(shù)器
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2024-10-23

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