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濕法腐蝕/刻蝕設備產(chǎn)品及廠家
RIE-10NR 等離子刻蝕設備
rie-10nr是一種新型的低成本、高性能的全自動rie等離子刻蝕設備,它能滿足非腐蝕性氣體化學苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友好的界面。
更新時間:
2024-08-15
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-230iP 等離子體刻蝕設備
rie-230ip是以電感耦合等離子體為放電方式,高速進行各種材料的超精細加工的負載鎖定型icp蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風式線圈電,高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子體,可對硅及各種金屬薄膜和化合物半導體進行高精度的各向異性蝕刻。
更新時間:
2024-08-15
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-400iP 等離子體刻蝕設備
rie-400ip是用于ø4 “晶圓的負載鎖定型蝕刻系統(tǒng),等離子體(icp)刻蝕設備可對各種半導體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工。采用龍卷風線圈的電感耦合等離子體(inductively coupled plasma)作為放電形式,可產(chǎn)生均勻、高密度的等離子體。
更新時間:
2024-08-15
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-802BCTRIE-802BCT 深硅刻蝕設備
rie-802bct深硅刻蝕設備是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個反應室的量產(chǎn)用硅深孔系統(tǒng)。標準配置有空氣盒和晶圓邊緣保護環(huán),以及高精度的晶圓對準器。該高性能系統(tǒng)能夠進行高長寬比加工(超過100)和低扇形加工,同時保持高蝕刻率和抗蝕劑選擇率。
更新時間:
2024-08-15
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
PD-270STLC 等離子體增強CVD系統(tǒng)
pd-270stlc是一種低溫(80 ~ 400°c)、高速(>300 nm/min)的等離子體增強cvd系統(tǒng),可用于大規(guī)模生產(chǎn)。samco的液態(tài)源cvd系統(tǒng)采用自偏置沉積技術和液態(tài)teos源,以低應力沉積sio2薄膜,從薄膜到厚的薄膜(高達100 µm)。
更新時間:
2024-08-15
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-1C 緊湊型刻蝕設備
rie-1c是用于半導體芯片故障分析的小型臺式干式蝕刻系統(tǒng)。可以高效、低損傷地去除鈍化膜。它操作簡單,樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個過程。可以放在桌面上,也可以選擇用支架。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-300NR RIE等離子刻蝕設備
rie-300nr是一種理想的rie等離子刻蝕設備,適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓(ø3“×12,ø4“×8等),具有優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)的設計旨在大限度地減少工廠空間需求,提高產(chǎn)量,大限度地延長正常運行時間,并通過可靠的硬件和便捷的服務降低擁有成本。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-200C RIE等離子刻蝕設備
rie-200c是在擁有豐富交貨業(yè)績的ccp rie系統(tǒng) “rie-10nr “的基礎上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對si、poly-si、sio₂、sin等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手,plc控制全自動操作,高性能存儲工藝參數(shù),實現(xiàn)了高產(chǎn)量。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-800iP 等離子體(ICP)刻蝕設備
高密度等離子體刻蝕設備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室,是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng),具有優(yōu)良的工藝重復性和穩(wěn)定性。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
PlasmaPro 800 RIE反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
plasmapro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(rie)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
PlasmaPro 80 RIE反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
plasmapro 80是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸,是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)
憑借在蝕刻gan,sic和藍寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗,我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。plasmapro 100 polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)為得到更為精細的刻蝕效果提供了智能解決方案,使您在行業(yè)中能保持競爭優(yōu)勢。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
KS-S300-E單片濕法刻蝕機
滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝,單片加工,適用于sio2,sin,polysilicon和各種金屬層的刻蝕,清洗等工藝流程。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
SENTECH 集群系統(tǒng)等離子刻蝕集群系統(tǒng)
sentech 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內(nèi)的轉移室有三到六個端口。多可以使用兩個盒式磁帶站來提高吞吐量。
更新時間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
APIOS NE-950EX干法刻蝕設備
干法刻蝕設備 apios ne-950ex對應led量產(chǎn)用的干法刻蝕設備「ne-950ex」相對我司以往設備實現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了icp高密度等離子源和愛發(fā)科自有的星型電的干法刻蝕設備。
更新時間:
2024-06-27
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
ULHITETM NE-7800H高密度等離子刻蝕裝置
高密度等離子刻蝕裝置ulhitetm ne-7800h高密度等離子客戶裝置ulhite ne-7800h是對應刻蝕feram、mram、reram、pcram等器件所用的高難度刻蝕材料(強電介質(zhì)層、貴金屬、磁性膜等)的multi-chamber型低壓高密度等離子刻蝕設備。
更新時間:
2024-06-27
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
NLD-570研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備
研究開發(fā)向nld干法刻蝕設備nld-570研究開發(fā)向nld干法刻蝕設備nld-570,是搭載了愛發(fā)科磁性中性線(nld- neutral loop discharge)等離子源的裝置,此nld技術可實現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。
更新時間:
2024-06-27
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-350iPC等離子體(ICP)刻蝕設備
rie-350ipc是一種盒式裝載電感耦合等離子體(icp)蝕刻設備,可處理多達ø350毫米的載盤,用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應用提供了堅固可靠的硬件和卓越的工藝控制,具有較高的生產(chǎn)率,如功率器件、微型led、vcsel、ld、電容器和射頻濾波器。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-400iP等離子體(ICP)刻蝕設備
rie-400ip是用于ø4 "晶圓的負載鎖定型蝕刻系統(tǒng),可對各種半導體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工。采用獨特的龍卷風線圈的電感耦合等離子體(inductively coupled plasma)作為放電形式,可產(chǎn)生均勻、高密度的等離子體。另外,可以根據(jù)加工材料和加工內(nèi)容選擇合適的等離子體源。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-230iPC等離子體(ICP)刻蝕設備
rie-230ipc是以電感耦合等離子體為放電方式,高速進行各種材料的超精細加工的盒式icp蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用獨特的龍卷風式線圈電,高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子體,實現(xiàn)了對硅、各種金屬薄膜和化合物半導體的高精度各向異性蝕刻。此外,ø230mm的托盤可同時處理多種化合物半導體。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-230iP等離子體(ICP)刻蝕設備
rie-230ip是以電感耦合等離子體為放電方式,高速進行各種材料的超精細加工的負載鎖定型icp蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用獨特的龍卷風式線圈電,高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子體,可對硅及各種金屬薄膜和化合物半導體進行高精度的各向異性蝕刻。此外,ø230mm的托盤可同時處理多種化合物半導體。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-10NRRIE等離子刻蝕設備
rie-10nr是一種新型的低成本、高性能的全自動反應離子蝕刻系統(tǒng),它能滿足非腐蝕性氣體化學苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友好的界面。該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確的側壁輪廓控制和材料間的高蝕刻選擇性。rie-10nr具有時尚、緊湊的設計,需要小的潔凈室空間。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-800iP等離子體(ICP)刻蝕設備
高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室,是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng),具有優(yōu)良的工藝重復性和穩(wěn)定性。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-200NLRIE等離子刻蝕系統(tǒng)
rie-200nl是一種負載鎖定型的反應離子蝕刻系統(tǒng),它提高了工藝的可重復性,并允許腐蝕性氣體化學。完全優(yōu)化的工藝室設計可在ø8 "晶圓或ø220mm小晶圓的載盤上提供優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確的側壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。rie-200nl設計時尚、緊湊,只需小的潔凈室空間。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-200CRIE等離子刻蝕設備
rie-200c是在擁有豐富交貨業(yè)績的ccp rie系統(tǒng) "rie-10nr "的基礎上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對si、poly-si、sio₂、sin等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手,plc控制全自動操作,高性能存儲工藝參數(shù),實現(xiàn)了高產(chǎn)量。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-300NRRIE等離子刻蝕設備
rie-300nr是一種理想的反應離子蝕刻系統(tǒng),適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓(ø3"×12,ø4"×8等),具有優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)的設計旨在大限度地減少工廠空間需求,提高產(chǎn)量,大限度地延長正常運行時間,并通過可靠的硬件和便捷的服務降低擁有成本。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-1C緊湊型刻蝕機
rie-1c是用于半導體芯片故障分析的小型臺式干式蝕刻系統(tǒng)。可以高效、低損傷地去除鈍化膜。它操作簡單,樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個過程。可以放在桌面上,也可以選擇用支架。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-802BCT深硅刻蝕設備
rie-802bct是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個反應室的量產(chǎn)用硅深孔系統(tǒng)。標準配置有空氣盒和晶圓邊緣保護環(huán),以及高精度的晶圓對準器。該高性能系統(tǒng)能夠進行高長寬比加工(超過100)和低扇形加工,同時保持高蝕刻率和抗蝕劑選擇率。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-800BCT深硅刻蝕設備
rie-800bct是使用電感耦合等離子體作為放電形式的生產(chǎn)型硅drie系統(tǒng)。這種高性能系統(tǒng)能夠進行高縱橫比處理(超過100)和低扇形處理,同時保持高蝕刻率和選擇性。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-800iPB深硅刻蝕設備
samco 的 rie-800ipb 是一種高性能的電感耦合等離子體 (icp) 蝕刻系統(tǒng),使用高密度等離子體進行 mems 和 tsv 應用所需的深度硅蝕刻。rie-800ipb是為bosch工藝設計的用硅蝕刻系統(tǒng)(由robert bosch gmbh授權)。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-400iPB深硅刻蝕設備
rie-400ipb是一款電感耦合等離子體放電設備,用于博世m(xù)ems和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。rie-800ipb是為研究和開發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由robert bosch gmbh(德國)授權,能夠對mems和tsv所需的硅進行高速和高各向異性蝕刻。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE-800iPC等離子體(ICP)刻蝕設備
高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室,是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng),具有優(yōu)良的工藝重復性和穩(wěn)定性。
更新時間:
2024-06-25
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
GDE C200系列高密度 刻蝕機
gde c200系列 高密度刻蝕機等離子體源和頻率設計,等離子體密度高,適用于強鍵合材料刻蝕
更新時間:
2024-06-21
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
定制方案刻蝕機終端檢測設備
刻蝕機終端檢測設備基本原理:通過特定波長譜線的強度變化來反映是否達到刻蝕終點。
更新時間:
2024-06-04
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
RIE反應離子刻蝕機
rie反應離子刻蝕機
更新時間:
2024-06-04
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
250mlFEP燒杯本底值實驗室250ml燒杯透明可視易清洗
fep燒杯,也稱聚全氟乙丙烯燒杯:非凡的化學耐受性,幾乎可耐受所有的化學溶劑。適合于保存化學品和樣本,或一般的高溫高壓滅菌用途。具有翻邊設計,便與夾持和移動,有散發(fā)熱量和增加機械強度的作用,邊沿有嘴,便于傾倒液體。燒杯是一種常見的實驗室玻璃器皿,通常由玻璃、塑料或者耐熱玻璃制成。燒杯呈圓柱形,頂部的一側開有一個槽口,便于傾倒液體。
更新時間:
2023-11-15
該公司產(chǎn)品分類:
南京濱正紅儀器有限公司
共37條
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最新產(chǎn)品
GLY-2型巖心飽和度干餾儀
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GLY-2型巖心飽和度干餾儀
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2024/10/22 20:12:11
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2024/10/22 20:12:10
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2024/10/22 20:12:09
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2024/10/22 20:12:09
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2024/10/22 19:54:36
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2024/10/22 19:54:35
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2024/10/22 19:54:34
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2024/10/22 19:50:08
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2024/10/22 19:50:07
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2024/10/22 19:50:07
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