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涂膠顯影設備產(chǎn)品及廠家

涂膠顯影機
ks-ft200/300系列堆疊式高產(chǎn)能道涂膠顯影機，為我司自主研發(fā)的突破晶圓道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程，適用于arf、krf、i-line、pi、barc，soc，sod，sog等多種材料涂覆顯影工藝的機臺。支持與光刻機聯(lián)機作業(yè)。該系列機臺通過各種行業(yè)認證，占地面積小、可靠性高、易于維護，滿足各種功能芯片制程需求。
更新時間:2024-08-14
星型全自動涂膠顯影機
ks-s150星型全自動涂膠顯影機用于led-pss工藝的涂膠顯影制程及化合物半導體的涂膠顯影等制程。可兼容藍寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓，產(chǎn)品涉及多個應用域，涂膠機產(chǎn)能大于190片/小時。設備通過了csa認證。
更新時間:2024-08-14
涂膠顯影半自動機臺
ks-m300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗和生產(chǎn)線。占地面積小，操作時手動上下片，工藝過程可自動完成。
更新時間:2024-08-14
12寸噴霧式涂膠機
ks-s300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣，避免溝槽堆積，節(jié)省光刻膠；同時針對輕薄易碎的襯底，承片臺靜態(tài)噴霧式涂膠可以避免襯底在高速旋轉(zhuǎn)時碎裂的風險。產(chǎn)品可應用于封裝、微機電系統(tǒng)制造等域。該產(chǎn)品已通過semi s2認證。
更新時間:2024-08-14
12寸 集束型涂膠顯影機
ks-c300涂膠顯影機可用于封裝、 mems、oled等域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產(chǎn)品可兼容不同材質(zhì)的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物等。產(chǎn)品可應用于邏輯類、存儲類芯片、攝像頭芯片、功率器件芯片、oled制造等域。國產(chǎn)化集成電路設備的成功應用為客戶節(jié)約了大量成本。產(chǎn)品通過semi s2認證。
更新時間:2024-08-14
全自動SCRUBBER清洗機
清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除，實現(xiàn)高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結(jié)合，優(yōu)化出佳的清洗工藝參數(shù)，確保不損傷晶圓表面的圖形；對于微米別大顆粒，采用特殊材料的毛刷或高壓噴淋對晶圓進行擦洗去除。配合晶圓翻轉(zhuǎn)裝置和夾持式承片臺，可在同一臺設備中實現(xiàn)對晶圓的正反兩面進行清洗。
更新時間:2024-08-14
單片式化學清洗機
ks-cm300/200 單片式化學清洗機適用于沉積清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、cmp后清洗等多種段工藝（feol）和后段工藝（beol）清洗進程，可適配高溫spm工藝，工藝覆蓋率達80%以上；搭載獨立開發(fā)的新一代高清洗效率低損傷射流噴嘴，潔凈度達到先進制程所需水平。
更新時間:2024-08-14
單片清洗機
用于晶圓封裝及oled中的清洗工藝，配合清洗化學藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機物、金屬離子等雜質(zhì)，同時適用于tsv后深孔內(nèi)含氟聚合物的清洗。
更新時間:2024-08-14
鈣鈦礦用涂膜機
鈣鈦礦用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質(zhì)陽氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩(wěn)定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性。可選配多種涂膜工具，適應不同需求。風刀角度與高度可調(diào)，工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。
更新時間:2024-08-13
全封閉式桌面顯影機
鈣鈦礦用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質(zhì)陽氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩(wěn)定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性。可選配多種涂膜工具，適應不同需求。風刀角度與高度可調(diào)，工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。
更新時間:2024-08-13
高溫型烤膠機
hp100-ht-ctm高溫型烤膠機，不銹鋼鍍陶瓷加熱，觸屏控溫，獨立電路，隔熱設計，安全耐用，高溫均勻，適合精密實驗。
更新時間:2024-08-13
精密型烤膠機
hp6精密型烤膠機，全鋁機身，高精度控溫，獨立電路，真空吸附，數(shù)顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
更新時間:2024-08-13
程控烤膠機
lebo science hp100-se程控烤膠機，7寸觸屏plc控，硬質(zhì)陽氧化鋁面板，優(yōu)異性能，業(yè)服務，實驗理想之選。
更新時間:2024-08-13
控溫型勻膠機
控溫型勻膠機，性能優(yōu)秀，業(yè)服務，高品質(zhì)材料，安全設計，桌面實驗理想選擇，為科學儀器域的優(yōu)選產(chǎn)品
更新時間:2024-08-13
PCD3012B低諧波高功充因數(shù)分段線性恒流LED控制芯片
pcd 3012b 是一款五段低 pcd 3012b 是一款五段低 thd 、高功率因數(shù) led 線性恒流控制芯片，芯片集成了 700v 高壓 mosfet ，采用獨特創(chuàng)新的器件工藝技術(shù)，具有優(yōu)越的抗雪崩擊穿及浪涌能力，在無保護器件時可通過650v 雷擊浪涌測試，內(nèi)置過溫保護功能，提升系統(tǒng)應用可靠性。可通過調(diào)節(jié)rext 電阻值對輸出電流進行調(diào)節(jié)。同時pcd3012b 集成了輸入線電壓補償功能， 在
更新時間:2024-05-23
全自動顯影機
本機采用plc控制，性能更穩(wěn)定，故障率低，維修更方便；增加了手動功能，可以單步偵測每個單元的動作。人機界面采用觸摸屏， 全中文界面，友好，易學，簡單培訓就可以上機操作。主體電機采用飼服和步進，穩(wěn)定可靠，不產(chǎn)生顆粒。噴頭采用雙流體實心錐噴頭，高效省液。液盤采用ptfe底座和不銹鋼外殼，不會變形，易清理。
更新時間:2024-01-24
Laurell 勻膠旋涂儀
laurell勻膠旋涂儀 ws-650mz-23nppb 技術(shù)參數(shù)：（1）腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米)；（2）wafer芯片尺寸：10-150mm直徑圓片，方片125x125mm；（3）轉(zhuǎn)動速度：100-12,000rpm；（4）旋涂加速度：1-12000rpm/sec（空載）；（5）馬達旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差<± 1 %；
更新時間:2023-08-03
POLOS Advanced系列濕法刻蝕處理系統(tǒng)
濕法刻蝕處理系統(tǒng)又稱自動顯影系統(tǒng)、自動刻蝕系統(tǒng)、自動去離子水清洗系統(tǒng)、顯影刻蝕系統(tǒng)、勻膠顯影機、自動刻蝕機、顯影刻蝕機、顯影臺、濕法刻蝕臺、顯影刻蝕臺等。polos advanced系列濕法處理系統(tǒng)可實現(xiàn)涂膠、刻蝕、顯影、清洗等多種工藝，適用于半導體、化工材料、硅片、導電玻璃等制版的表面顯影。
更新時間:2023-08-03

最新產(chǎn)品
熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計（PH計） 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標準物質(zhì) 生物試劑