大氣顆粒物采樣器產(chǎn)品及廠家
客戶提供三個(gè)系列的超聲波清洗器eco系列：*有3l，6l，10l，15l，22l五個(gè)型號可選*內(nèi)外全不銹鋼機(jī)構(gòu)，配有托盤，客戶可以直接將待洗部件放入清洗*數(shù)字式定時(shí)器。
更新時(shí)間:2024-10-21
由savillex公司出品的vcultra酸蒸汽清洗系統(tǒng)（vcultra）為進(jìn)行微波消解樣品制備的實(shí)驗(yàn)室提供了一種安全，高效，操作便捷的微波消解容器清洗方案。vcultra由超凈氟聚合物制成。
更新時(shí)間:2024-10-21
凈的樣品處理容器是獲得可靠分析結(jié)果的提。痕量分析所使用的微波消解罐、常壓消解罐、玻璃器皿（試管、燒杯、容量瓶等）等的痕量清洗，對于實(shí)驗(yàn)室人員來說，始終是一個(gè)非常繁瑣而又非常重要的挑戰(zhàn)。美國amerlab艾默萊ac200系列酸蒸超凈清洗器（酸逆流清洗器），很好地解決了這個(gè)問題。中空導(dǎo)汽管和頂層清洗架更業(yè)的清洗能力微波消解管清洗架超微波管清洗架特點(diǎn)：?清洗架采用雙層結(jié)構(gòu)，下層清洗消解管，可選
更新時(shí)間:2024-10-21
psd-uv系列psd系列產(chǎn)品是數(shù)字控制的臺式清洗設(shè)備，可以提供44英寸至1216英寸的清洗尺寸。設(shè)備配備一個(gè)帶反射罩的高強(qiáng)度uv格柵燈盤,和可調(diào)節(jié)高度的樣品臺，用于優(yōu)化樣品位置和清洗效果。
更新時(shí)間:2024-10-21
lasermbelasermbe特點(diǎn)模塊化概念，lasermbe可以輕松升級到中央傳輸模塊或其他模塊uhvpld主腔室、利用load-lock實(shí)現(xiàn)襯底和靶材的uhv傳輸先進(jìn)的工藝自動(dòng)化功能，可實(shí)現(xiàn)超晶格生長溫度測量準(zhǔn)確的耐氧襯底加熱器，最高1000℃，也可以選配激光加熱靶臺可以屏蔽交叉污染，傳輸整個(gè)carrousel而非單個(gè)靶材真空腔室利于系統(tǒng)升級。
更新時(shí)間:2024-10-21
點(diǎn)：?耐酸堿保護(hù)膠?不含光敏物質(zhì)，無需黃光室?在40%koh或50%hf酸中可長時(shí)間穩(wěn)定?通過雙層工藝可實(shí)現(xiàn)正性(ar-p3250)或負(fù)性(ar-n4400-05/10)光刻工藝旋涂曲線。
更新時(shí)間:2024-10-21
特點(diǎn)：?用于高靈敏度電子束曝光、混合曝光等?感光波段：e-beam、deepuv(248nm)?紫外曝光波段：負(fù)膠：248nm~265nm&290nm~330nm?化學(xué)放大膠，高靈敏度?良好的耐干法刻蝕能力。
更新時(shí)間:2024-10-21
歐羅拉致力于為各種研究領(lǐng)域的科學(xué)家提供自動(dòng)化液體處理系統(tǒng)，包括：醫(yī)藥、生物技術(shù)、農(nóng)業(yè)、食品科學(xué)和法醫(yī)。versa系列作為液體處理系統(tǒng)，可以提高處理效率和數(shù)據(jù)質(zhì)量，降低重復(fù)煩瑣工作帶來的不穩(wěn)定性和減少試劑成本。
更新時(shí)間:2024-10-21
aa-7000是島津研發(fā)的一款高性能的火焰石墨爐一體機(jī)原子吸收分光光度計(jì)。雙原子化器自動(dòng)切換。
更新時(shí)間:2024-10-21
mga系列石墨爐原子吸收經(jīng)過二十年多年的發(fā)展，具備成熟的儀器方法和配置，獨(dú)特的優(yōu)勢特點(diǎn)受到廣大用戶的好評。
更新時(shí)間:2024-10-21
技術(shù)參數(shù)：1.光度計(jì)：高光通量的單光束/雙光束自動(dòng)切換技術(shù)；2.單色器：czemyturner單色器，1800條刻線/mm；3.燈座：全自動(dòng)8燈座，自動(dòng)準(zhǔn)直；4.背景校正：電子調(diào)諧氘空心陰極燈和三磁場塞曼效應(yīng)雙扣背景；5.磁場強(qiáng)度:0.1-1.0t可調(diào)，可在2-磁場塞曼和3-磁場塞曼模式間切換；6.石墨爐：橫向加熱石墨爐，室溫-3000度控溫，加熱速度最高3000度/秒；7.
更新時(shí)間:2024-10-21
spectrumtwo系統(tǒng)適合于各種各樣的應(yīng)用。spectrumtwo具有完全一體化且可靠的通用采樣功能，輕松進(jìn)行測量并提供便攜選配件，是適用于實(shí)驗(yàn)室和現(xiàn)場測試環(huán)境的理想儀器。perkinelmer擁有超過65年的光譜儀行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，我們將這些專業(yè)知識濃縮在一臺儀器上，幫助您快速確保材料質(zhì)量。
更新時(shí)間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis5傅立葉變換紅外光譜儀性能優(yōu)異，適合于產(chǎn)品可靠性測試、質(zhì)量控制、材料鑒定等分析工作。
更新時(shí)間:2024-10-21
r&d100金獎(jiǎng)產(chǎn)品，在儀器設(shè)計(jì)和性能各個(gè)方面都有非常出色的表現(xiàn)。做為新一代工業(yè)在線級傅立葉變換近紅外光譜分析儀，該儀器采用了多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，滿足各種工業(yè)現(xiàn)場要求：rocksolid干涉儀，bruker的專利技術(shù)；digitect技術(shù)，檢測器為數(shù)字檢測器，bruker的專利技術(shù)；多用途光纖探頭滿足各種工業(yè)環(huán)境；強(qiáng)大的遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)交換系統(tǒng)，能與工業(yè)控制系統(tǒng)或其它外圍計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)交換。
更新時(shí)間:2024-10-21
瑞士buchi公司的近紅外技術(shù)給您的整個(gè)生產(chǎn)鏈提供了完整的分析測試方案，從進(jìn)廠原料的檢測到生產(chǎn)過程到最終產(chǎn)品的分析測試。
更新時(shí)間:2024-10-21
洋光學(xué)oceanhdxraman是款專門為785nm拉曼應(yīng)用而設(shè)計(jì)的微型光纖光譜儀，可覆蓋150cm-1-3400cm-1的測景范圍。
更新時(shí)間:2024-10-21
hr4000cg復(fù)合光柵光譜儀采用專利光柵技術(shù)并使用濾光片消除二三級衍射的影響，從而達(dá)到200-1100nm波長范圍和0.75nm光學(xué)分辨率(fwhm)。hr4000cg光譜儀采用預(yù)配置設(shè)計(jì)-所有的光學(xué)平臺選件都為您預(yù)先選定。
更新時(shí)間:2024-10-21
便攜式近紅外光譜儀flame-nir光纖光譜儀是海洋光學(xué)較小的近紅外光譜儀。結(jié)合帶有新型非冷卻ingaas探測器的小尺寸flame光具座，flame-nir光譜儀在近紅外光譜方面開拓了一個(gè)全新的領(lǐng)域。由于無需tec冷卻，flame-nir的功耗需求超低，使得它非常適合整合到手持式系統(tǒng)和便攜系統(tǒng)。flame-nir具有flame系列產(chǎn)品的所有優(yōu)勢，包括可互換狹縫和低的臺間差。flame-nir光
更新時(shí)間:2024-10-21
如果您應(yīng)用nir光譜在研究，診斷或過程控制中的話，海洋光學(xué)nirquest近紅外光纖光譜儀將是一個(gè)低成本，方便的選擇，可取代ft-ir或同類技術(shù)的系統(tǒng)。nirquest光譜儀采用高性能的光學(xué)平臺，具有較低的電子噪聲和多個(gè)光柵的選擇。
更新時(shí)間:2024-10-21
在可見光至近紅外波段，地表物體自身的熱輻射幾乎為零。地物發(fā)出的波譜主要以反射太陽輻射為主。地物光譜測量是依據(jù)地球表面物體對可見光和近紅外光的反射特性對物體做定性或定量分析的方法。用于測量、采集、分析地表物體在野外自然條件下的反射率的光譜儀器我們稱之為地物光譜儀。海洋光學(xué)現(xiàn)推出fs1100手持式地物光纖光譜儀,專用于地表特征反射光譜的測量。可實(shí)現(xiàn)快速、準(zhǔn)確、無損且非接觸式光譜測量。
更新時(shí)間:2024-10-21
mpaii是布魯克光譜部門集近40年設(shè)計(jì)和生產(chǎn)ftir和ft-nir光譜儀經(jīng)驗(yàn)的結(jié)晶，該儀器具有強(qiáng)大的擴(kuò)展靈活性和優(yōu)越的性能，為ft-nir分析儀器樹立了新的標(biāo)準(zhǔn)。其高性能的附件和靈活的操作性，成為實(shí)驗(yàn)室和過程分析開發(fā)各種方法不可缺少的強(qiáng)有力工具，能夠最大程度的滿足不同用戶科研和生產(chǎn)qa/qc的需求。采用模塊化設(shè)計(jì)，可以針對每個(gè)分析任務(wù)進(jìn)行單獨(dú)配置。卓越的擴(kuò)展性能在有特定
更新時(shí)間:2024-10-21
用于沉積納米級薄膜、納米粉末包覆、長深孔樣品鍍膜;具有thermal-ald、peald、particle-ald和生產(chǎn)型ald;具備近100種膜層工藝。應(yīng)用領(lǐng)域：芯片封裝、半導(dǎo)體high-k介電層、納米涂層、3d涂層、鋰電池、催化劑、太陽能電池、5g通訊（saw器件）、生物醫(yī)學(xué)仿生、熒光材料、oled顯示、有機(jī)材料、電子電路、光學(xué)膜等。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國creativedesignengineering,簡稱“cde”，成立于1995年，位于美國加州硅谷的庫比蒂諾-cupertino,cde公司專注于四探針設(shè)備的生產(chǎn)和銷售，累計(jì)銷量達(dá)1000臺以上，遍布世界各大半導(dǎo)體fab,太陽能光伏企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)，“cde”是四探針領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)品牌。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國fourdimensions,inc,簡稱“4d”，成立于1978年，位于美國加州硅谷的hayward,4d公司專注于四探針設(shè)備和cv儀的生產(chǎn)和銷售，累計(jì)銷量達(dá)800臺以上，遍布世界各大半導(dǎo)體fab,太陽能光伏企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)。
更新時(shí)間:2024-10-21
nsc-3000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。
更新時(shí)間:2024-10-21
激光分子束外延(lasermbe)是上個(gè)世紀(jì)90年代發(fā)展起來的一種新型高精密制膜技術(shù)，它集pld的制膜特點(diǎn)和傳統(tǒng)mbe的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位實(shí)時(shí)監(jiān)控為一體，除保持了pld方法制備的膜系寬，還可以生長通常的半導(dǎo)體超晶格材料，特別適合生長多元素、高熔點(diǎn)、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜，如超導(dǎo)體、光學(xué)晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機(jī)高分子等。
更新時(shí)間:2024-10-21
基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(maple)是pld的一種變體。這是由nrl集團(tuán)新引入的技術(shù)，以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積。基于uv(5-6ev)的傳統(tǒng)pld技術(shù)中，光化學(xué)反應(yīng)可能會惡化有機(jī)分子、聚合物等的功能。而在maple中，通過將待沉積的有機(jī)物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質(zhì))混合來制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。
更新時(shí)間:2024-10-21
1.ald(傳統(tǒng)的熱原子層沉積)；2.peald(等離子增強(qiáng)原子層沉積)；3.powderald(粉末樣品的原子層沉積)；儀器簡介：原子層沉積（atomiclayerdeposition，ald），也稱為原子層外延（atomiclayerepitaxy，ale），或原子層化學(xué)氣相沉積（atomiclayerchemicalvapordeposition。
更新時(shí)間:2024-10-21
特點(diǎn)：?用于耐刻蝕工藝、電鍍、liga、mems等?感光波段：broadbanduv、i-line(365nm)g-line(436nm)、e-beam、x-ray、synchrotron?涂膠厚度從幾微米到上百微米不等?覆蓋能力強(qiáng)，分辨率高，圖形邊緣結(jié)構(gòu)陡直?化學(xué)放大膠，具有非常高的靈敏度?可得到undercut結(jié)構(gòu)，用于lift-off工藝?可替代su8膠。
更新時(shí)間:2024-10-21
特點(diǎn)：?用于消除電子束曝光、sem成像、fib等工藝中的荷電效應(yīng)?通過旋涂的方式涂膠，操作簡單?涂膠厚度：40nm@4000rpm?電子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不損傷襯底材料?對紫外光、電子束不敏感，無需黃光室5090.02，適于pmma、csar62、hsq等。
更新時(shí)間:2024-10-21
特點(diǎn)：?紫外負(fù)膠（厚膠），適用于liga及mems應(yīng)用?涂膠厚度10μm@1000rpm，可提供更高厚度（200μm）?sxar-n4600-10:結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性好、重復(fù)性好，厚度可達(dá)幾百微米，適用于永久保留膠體結(jié)構(gòu)的應(yīng)用?sxar-n4650-10:容易去膠，適合于電鑄工藝
更新時(shí)間:2024-10-21
刻膠（resist）概述光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用于集成電路(ic)，封裝(packaging)，微機(jī)電系統(tǒng)(mems)，光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板顯示器(led,lcd,oled)，太陽能
更新時(shí)間:2024-10-21
pda-8000是島津公司2010年推出的最新一款光電發(fā)射光譜儀，集合了島津光電發(fā)射光譜儀之精華，突出了高靈敏度、高穩(wěn)定性的特點(diǎn)，尤其在高純有色金屬、鋼鐵中酸溶鋁、夾雜物方面的分析有著獨(dú)特的技術(shù)。性能特點(diǎn)：1）高分辨率分光器最新設(shè)計(jì)的1米光柵分光室，可以有效減少元素間的分光干擾。
更新時(shí)間:2024-10-21
島津/kratos公司的axissupra+作為高端光電子能譜儀傳承了上一代產(chǎn)品高度智能化的優(yōu)點(diǎn)，將采譜、成像功能與自動(dòng)化高度相融合，保證了高樣品吞吐量和易用性，為用戶提供了全新無人值守自動(dòng)化體驗(yàn)。同時(shí)axissupra+對產(chǎn)品硬件進(jìn)行了相應(yīng)的改進(jìn)和擴(kuò)展，一方面能夠?yàn)橛脩籼峁﹥x器更優(yōu)異的性能，另一方面也為用戶提供了可選的多種拓展技術(shù)。
更新時(shí)間:2024-10-21
津高分辨率原子力顯微鏡spm-8100fm使用調(diào)頻模式，極大提高了信號的靈敏度，是第一款可以在大氣環(huán)境下獲得與真空環(huán)境中同樣超高分辨率表面觀察圖像的產(chǎn)品，無論樣品種類（薄膜、晶體、半導(dǎo)體、有機(jī)材料），還是不同環(huán)境（大氣環(huán)境及溶液環(huán)境）。并且首次觀察到固體和液體臨界面（固液界面）的水化、溶劑化現(xiàn)象的圖像，因此實(shí)現(xiàn)了對固液界面結(jié)構(gòu)的測量分析。
更新時(shí)間:2024-10-21
setsysevolution同步熱分析儀sta是setaram熱分析的旗艦產(chǎn)品！系統(tǒng)高度模塊化，可擴(kuò)展性極強(qiáng)，滿足各種苛刻條件下的測試需要，如：100%腐蝕性氣氛，氧化/還原性氣氛，及水蒸氣氣氛工作條件。系統(tǒng)采用獨(dú)特的上天平、懸掛式載樣設(shè)計(jì)，單一石墨爐體全程快速升溫，裝配專業(yè)熱分析光電天平，傳感器采用即插即用式接口，加熱爐配備水冷系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-10-21
tg-dta可搭載樣品觀察型電爐，在通過顯微相機(jī)觀察升溫過程中樣品變化的同時(shí)，可進(jìn)行高達(dá)1,000℃的測量。
更新時(shí)間:2024-10-21
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)；它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜。
更新時(shí)間:2024-10-21
leicaemace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計(jì)來根據(jù)您的fe-sem和tem應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細(xì)粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時(shí)間:2024-10-21
適合不同電子顯微鏡極靴類型的的eds細(xì)管徑設(shè)計(jì)和優(yōu)化的eds，幾何構(gòu)型確保了最優(yōu)的信號采集角和檢出角全面的k、l、m和n線系原子數(shù)據(jù)庫，完美匹配低電壓分析可定制無窗探測器進(jìn)一步提高低能端的檢測性能強(qiáng)大的混合脈沖處理器，可輸出計(jì)數(shù)率為600kcps易用而強(qiáng)大的esprit軟件。
更新時(shí)間:2024-10-21
固體分析分光光度計(jì)專家u-4100，實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步的技術(shù)提高,uh4150問世！現(xiàn)在，uh4150型分光光度計(jì)已經(jīng)面世，秉承了u-4100的高度可靠性。u-4100已累計(jì)發(fā)售1,500*1多臺。特點(diǎn)切換檢測器波長時(shí)會產(chǎn)生小的信號差異,即使這樣uh4150也可實(shí)現(xiàn)高精度的測定。安裝在積分球上的多個(gè)檢測器可在紫外-可見-近紅外的波長范圍內(nèi)進(jìn)行測定。
更新時(shí)間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis5傅立葉變換紅外光譜儀性能優(yōu)異，適合于產(chǎn)品可靠性測試、質(zhì)量控制、材料鑒定等分析工作。
更新時(shí)間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis50配有專業(yè)化的附件和集成的分析軟件，能夠提供一個(gè)真正一體化的材料分析平臺,幫助實(shí)驗(yàn)室工作人員以前所未有的輕松方式來應(yīng)對在分析領(lǐng)域所遇到的挑戰(zhàn)。
更新時(shí)間:2024-10-21
vertex70v光譜儀采用rocksolid?永久準(zhǔn)直高性能干涉儀，能滿足從常規(guī)分析測量到高端科研領(lǐng)域的各種應(yīng)用需求。采用ultrascan?真正準(zhǔn)直專利干涉儀的vertex80和vertex80v是針對業(yè)內(nèi)最前沿的科研應(yīng)用設(shè)計(jì)的，它具備極高的光譜分辨率、能實(shí)現(xiàn)目前業(yè)內(nèi)最高水平的快速掃描和步進(jìn)掃描測量，能在最廣的光譜范圍內(nèi)提供卓越的性能。vertex70v及vert
更新時(shí)間:2024-10-21
nld-3500（a）全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ald原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ald原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ald原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ald原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。
更新時(shí)間:2024-10-21
sal-3000ald原子層沉積系統(tǒng)sal3000是一款適用于研究型的ald原子層沉積設(shè)備，該設(shè)備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
更新時(shí)間:2024-10-21
picosun擁有30多年在芬蘭ald反應(yīng)器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。tuomosuntola博士，于1974年發(fā)明了ald技術(shù)，是picosun董事會的成員。我們的首席技術(shù)官svenlindfors從1975年開始連續(xù)的設(shè)計(jì)ald系統(tǒng)。綜合起來講，picosun擁有了200多年的ald經(jīng)驗(yàn)并貢獻(xiàn)了100多項(xiàng)ald專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使picosun成為ald技術(shù)優(yōu)質(zhì)的合作伙伴。技術(shù)參
更新時(shí)間:2024-10-21
系統(tǒng)中的pecvd可以沉積高質(zhì)量sio2薄膜、si3n4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻(rf)，可選用空陰極高密度等離子體(hcd)源、感應(yīng)耦合等離子體（icp）源。
更新時(shí)間:2024-10-21
最新產(chǎn)品
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