大氣顆粒物采樣器產(chǎn)品及廠家
nsc-3000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。
更新時(shí)間:2024-10-21
激光分子束外延(lasermbe)是上個(gè)世紀(jì)90年代發(fā)展起來(lái)的一種新型高精密制膜技術(shù)，它集pld的制膜特點(diǎn)和傳統(tǒng)mbe的超高真空精確控制原子尺度外延生長(zhǎng)的原位實(shí)時(shí)監(jiān)控為一體，除保持了pld方法制備的膜系寬，還可以生長(zhǎng)通常的半導(dǎo)體超晶格材料，特別適合生長(zhǎng)多元素、高熔點(diǎn)、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜，如超導(dǎo)體、光學(xué)晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機(jī)高分子等。
更新時(shí)間:2024-10-21
基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(maple)是pld的一種變體。這是由nrl集團(tuán)新引入的技術(shù)，以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積。基于uv(5-6ev)的傳統(tǒng)pld技術(shù)中，光化學(xué)反應(yīng)可能會(huì)惡化有機(jī)分子、聚合物等的功能。而在maple中，通過(guò)將待沉積的有機(jī)物(或聚合物)與吸收激光波長(zhǎng)的溶劑(基質(zhì))混合來(lái)制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。
更新時(shí)間:2024-10-21
1.ald(傳統(tǒng)的熱原子層沉積)；2.peald(等離子增強(qiáng)原子層沉積)；3.powderald(粉末樣品的原子層沉積)；儀器簡(jiǎn)介：原子層沉積（atomiclayerdeposition，ald），也稱為原子層外延（atomiclayerepitaxy，ale），或原子層化學(xué)氣相沉積（atomiclayerchemicalvapordeposition。
更新時(shí)間:2024-10-21
特點(diǎn)：?用于耐刻蝕工藝、電鍍、liga、mems等?感光波段：broadbanduv、i-line(365nm)g-line(436nm)、e-beam、x-ray、synchrotron?涂膠厚度從幾微米到上百微米不等?覆蓋能力強(qiáng)，分辨率高，圖形邊緣結(jié)構(gòu)陡直?化學(xué)放大膠，具有非常高的靈敏度?可得到undercut結(jié)構(gòu)，用于lift-off工藝?可替代su8膠。
更新時(shí)間:2024-10-21
特點(diǎn)：?用于消除電子束曝光、sem成像、fib等工藝中的荷電效應(yīng)?通過(guò)旋涂的方式涂膠，操作簡(jiǎn)單?涂膠厚度：40nm@4000rpm?電子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不損傷襯底材料?對(duì)紫外光、電子束不敏感，無(wú)需黃光室5090.02，適于pmma、csar62、hsq等。
更新時(shí)間:2024-10-21
特點(diǎn)：?紫外負(fù)膠（厚膠），適用于liga及mems應(yīng)用?涂膠厚度10μm@1000rpm，可提供更高厚度（200μm）?sxar-n4600-10:結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性好、重復(fù)性好，厚度可達(dá)幾百微米，適用于永久保留膠體結(jié)構(gòu)的應(yīng)用?sxar-n4650-10:容易去膠，適合于電鑄工藝
更新時(shí)間:2024-10-21
刻膠（resist）概述光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用于集成電路(ic)，封裝(packaging)，微機(jī)電系統(tǒng)(mems)，光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板顯示器(led,lcd,oled)，太陽(yáng)能
更新時(shí)間:2024-10-21
pda-8000是島津公司2010年推出的最新一款光電發(fā)射光譜儀，集合了島津光電發(fā)射光譜儀之精華，突出了高靈敏度、高穩(wěn)定性的特點(diǎn)，尤其在高純有色金屬、鋼鐵中酸溶鋁、夾雜物方面的分析有著獨(dú)特的技術(shù)。性能特點(diǎn)：1）高分辨率分光器最新設(shè)計(jì)的1米光柵分光室，可以有效減少元素間的分光干擾。
更新時(shí)間:2024-10-21
島津/kratos公司的axissupra+作為高端光電子能譜儀傳承了上一代產(chǎn)品高度智能化的優(yōu)點(diǎn)，將采譜、成像功能與自動(dòng)化高度相融合，保證了高樣品吞吐量和易用性，為用戶提供了全新無(wú)人值守自動(dòng)化體驗(yàn)。同時(shí)axissupra+對(duì)產(chǎn)品硬件進(jìn)行了相應(yīng)的改進(jìn)和擴(kuò)展，一方面能夠?yàn)橛脩籼峁﹥x器更優(yōu)異的性能，另一方面也為用戶提供了可選的多種拓展技術(shù)。
更新時(shí)間:2024-10-21
津高分辨率原子力顯微鏡spm-8100fm使用調(diào)頻模式，極大提高了信號(hào)的靈敏度，是第一款可以在大氣環(huán)境下獲得與真空環(huán)境中同樣超高分辨率表面觀察圖像的產(chǎn)品，無(wú)論樣品種類（薄膜、晶體、半導(dǎo)體、有機(jī)材料），還是不同環(huán)境（大氣環(huán)境及溶液環(huán)境）。并且首次觀察到固體和液體臨界面（固液界面）的水化、溶劑化現(xiàn)象的圖像，因此實(shí)現(xiàn)了對(duì)固液界面結(jié)構(gòu)的測(cè)量分析。
更新時(shí)間:2024-10-21
setsysevolution同步熱分析儀sta是setaram熱分析的旗艦產(chǎn)品！系統(tǒng)高度模塊化，可擴(kuò)展性極強(qiáng)，滿足各種苛刻條件下的測(cè)試需要，如：100%腐蝕性氣氛，氧化/還原性氣氛，及水蒸氣氣氛工作條件。系統(tǒng)采用獨(dú)特的上天平、懸掛式載樣設(shè)計(jì)，單一石墨爐體全程快速升溫，裝配專業(yè)熱分析光電天平，傳感器采用即插即用式接口，加熱爐配備水冷系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-10-21
tg-dta可搭載樣品觀察型電爐，在通過(guò)顯微相機(jī)觀察升溫過(guò)程中樣品變化的同時(shí)，可進(jìn)行高達(dá)1,000℃的測(cè)量。
更新時(shí)間:2024-10-21
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)；它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜。
更新時(shí)間:2024-10-21
leicaemace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計(jì)來(lái)根據(jù)您的fe-sem和tem應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細(xì)粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時(shí)間:2024-10-21
適合不同電子顯微鏡極靴類型的的eds細(xì)管徑設(shè)計(jì)和優(yōu)化的eds，幾何構(gòu)型確保了最優(yōu)的信號(hào)采集角和檢出角全面的k、l、m和n線系原子數(shù)據(jù)庫(kù)，完美匹配低電壓分析可定制無(wú)窗探測(cè)器進(jìn)一步提高低能端的檢測(cè)性能強(qiáng)大的混合脈沖處理器，可輸出計(jì)數(shù)率為600kcps易用而強(qiáng)大的esprit軟件。
更新時(shí)間:2024-10-21
固體分析分光光度計(jì)專家u-4100，實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步的技術(shù)提高,uh4150問(wèn)世！現(xiàn)在，uh4150型分光光度計(jì)已經(jīng)面世，秉承了u-4100的高度可靠性。u-4100已累計(jì)發(fā)售1,500*1多臺(tái)。特點(diǎn)切換檢測(cè)器波長(zhǎng)時(shí)會(huì)產(chǎn)生小的信號(hào)差異,即使這樣uh4150也可實(shí)現(xiàn)高精度的測(cè)定。安裝在積分球上的多個(gè)檢測(cè)器可在紫外-可見(jiàn)-近紅外的波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)定。
更新時(shí)間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis5傅立葉變換紅外光譜儀性能優(yōu)異，適合于產(chǎn)品可靠性測(cè)試、質(zhì)量控制、材料鑒定等分析工作。
更新時(shí)間:2024-10-21
thermoscientificnicoletis50配有專業(yè)化的附件和集成的分析軟件，能夠提供一個(gè)真正一體化的材料分析平臺(tái),幫助實(shí)驗(yàn)室工作人員以前所未有的輕松方式來(lái)應(yīng)對(duì)在分析領(lǐng)域所遇到的挑戰(zhàn)。
更新時(shí)間:2024-10-21
vertex70v光譜儀采用rocksolid?永久準(zhǔn)直高性能干涉儀，能滿足從常規(guī)分析測(cè)量到高端科研領(lǐng)域的各種應(yīng)用需求。采用ultrascan?真正準(zhǔn)直專利干涉儀的vertex80和vertex80v是針對(duì)業(yè)內(nèi)最前沿的科研應(yīng)用設(shè)計(jì)的，它具備極高的光譜分辨率、能實(shí)現(xiàn)目前業(yè)內(nèi)最高水平的快速掃描和步進(jìn)掃描測(cè)量，能在最廣的光譜范圍內(nèi)提供卓越的性能。vertex70v及vert
更新時(shí)間:2024-10-21
nld-3500（a）全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ald原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ald原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在ald原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ald原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。
更新時(shí)間:2024-10-21
sal-3000ald原子層沉積系統(tǒng)sal3000是一款適用于研究型的ald原子層沉積設(shè)備，該設(shè)備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
更新時(shí)間:2024-10-21
picosun擁有30多年在芬蘭ald反應(yīng)器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。tuomosuntola博士，于1974年發(fā)明了ald技術(shù)，是picosun董事會(huì)的成員。我們的首席技術(shù)官svenlindfors從1975年開(kāi)始連續(xù)的設(shè)計(jì)ald系統(tǒng)。綜合起來(lái)講，picosun擁有了200多年的ald經(jīng)驗(yàn)并貢獻(xiàn)了100多項(xiàng)ald專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使picosun成為ald技術(shù)優(yōu)質(zhì)的合作伙伴。技術(shù)參
更新時(shí)間:2024-10-21
系統(tǒng)中的pecvd可以沉積高質(zhì)量sio2薄膜、si3n4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻(rf)，可選用空陰極高密度等離子體(hcd)源、感應(yīng)耦合等離子體（icp）源。
更新時(shí)間:2024-10-21
pe-cvd解決方案與典型cvd反應(yīng)器相比，等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積(pe-cvd)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案，同時(shí)不會(huì)降低薄膜質(zhì)量。高質(zhì)量的二氧化硅(sio2)膜可以在300℃至350℃沉積，而cvd需要650℃至850℃的溫度生產(chǎn)類似質(zhì)量的鍍膜。pe-cvd使用電能產(chǎn)生輝光放電(等離子體)，其中能量轉(zhuǎn)移到氣體混合物中。
更新時(shí)間:2024-10-21
parkfx40納米科學(xué)研發(fā)界應(yīng)運(yùn)而生的的新型全自動(dòng)原子力顯微鏡該產(chǎn)品可以通過(guò)多樣化的應(yīng)用程序，不費(fèi)吹灰之力即可獲得最敏銳、最清晰、最高分辨率的掃描圖像。
更新時(shí)間:2024-10-21
aperiogt450標(biāo)記為僅供研究使用，可提供優(yōu)先掃描的連續(xù)機(jī)架裝載，僅需32秒即可在病理載玻片上以40x放大率掃描15mm15mm組織區(qū)域，吞吐量為81載玻片/小時(shí)。這項(xiàng)新技術(shù)允許客戶進(jìn)行研究以擴(kuò)大數(shù)字病理學(xué)，以滿足不斷增加的滑動(dòng)量需求。
更新時(shí)間:2024-10-21
1.悠久的電子顯微鏡研究及生產(chǎn)歷史zeiss公司具有悠久的電鏡研究、生產(chǎn)歷史，在世界上一直處于地位。當(dāng)今的zeiss公司納米技術(shù)系統(tǒng)分部（thenanotechnologysystemsdivisionofcarlzeisssmt）由德國(guó)本部電鏡生產(chǎn)基地和英國(guó)劍橋廠及其他配件廠組成。
更新時(shí)間:2024-10-21
在以納米技術(shù)和生物技術(shù)為主的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域里，從物質(zhì)的微細(xì)結(jié)構(gòu)到組成成分，sem在多種多樣的觀察與分析中得到了靈活應(yīng)用。sem用途日益擴(kuò)大，但對(duì)于鋼鐵等工業(yè)材料和汽車(chē)零配件等超大/超重樣品，由于電鏡樣品臺(tái)能對(duì)應(yīng)的樣品尺寸和重量受到限制，所以觀察時(shí)需要進(jìn)行切割等加工。因此，對(duì)超大樣品不施以加工處理，便可直接觀察表面微細(xì)形貌和進(jìn)行各種分析則成為重要的課題。
更新時(shí)間:2024-10-21
rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)sem-raman(risemicroscopy)rise電鏡-拉曼一體化系統(tǒng)是一款新穎的顯微鏡技術(shù)，在一個(gè)集成的顯微鏡系統(tǒng)中結(jié)合了共焦拉曼成像和掃描電子顯微鏡技術(shù)，這種獨(dú)特的組合為顯微鏡用戶對(duì)樣品進(jìn)行綜合表征，提供了明顯的優(yōu)勢(shì)。掃描電子顯微鏡是一個(gè)很好的表征納米范圍內(nèi)樣品表面結(jié)構(gòu)的可視化技術(shù)，而共焦拉曼成像是表征樣品化學(xué)和分子組成的成熟光譜方法。
更新時(shí)間:2024-10-21
飛納臺(tái)式掃描電鏡1997年fei和飛利浦電子光學(xué)宣布合并其全球業(yè)務(wù)2008年臺(tái)式掃描電子顯微鏡飛納(phenom)進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)2012年飛納(phenom）臺(tái)式掃描電鏡全球銷(xiāo)最突破2000臺(tái)2013年飛納（phenom)發(fā)布第三代臺(tái)式掃描電鏡，放大倍數(shù)10萬(wàn)倍，分辨率優(yōu)于8nm17世紀(jì)荷蘭光學(xué)天才:antonivanleeuwenhoek設(shè)計(jì)并制造世界第一臺(tái)光學(xué)顯微鏡。
更新時(shí)間:2024-10-21
電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)，簡(jiǎn)潔小巧phenomprox的能譜儀eds是針對(duì)臺(tái)式電鏡設(shè)計(jì)的，本著臺(tái)式電鏡簡(jiǎn)單易用，售后無(wú)憂的宗旨，phenomprox的能譜儀eds系統(tǒng)完全嵌入在電鏡主機(jī)中，利用半導(dǎo)體制冷，無(wú)需額外冷卻系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-10-21
蔡司gemini系列場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，具有出色的探測(cè)效率，能夠輕松實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像，適用于多種材料的高分辨成像與分析。無(wú)論是在高真空還是可變真空模式下，對(duì)任意樣品進(jìn)行成像時(shí)都具有更高的表面細(xì)節(jié)信息，，可獲取各類樣品在微觀世界中清晰、真實(shí)的圖像。為生命科學(xué)研究、工業(yè)實(shí)驗(yàn)室、成像平臺(tái)、高校或研究機(jī)構(gòu)提供靈活、可靠的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微技術(shù)與解決方案。
更新時(shí)間:2024-10-21
alosl120ctem產(chǎn)品描述talosl120ctem在為模塊化多功能性、最大穩(wěn)定性和操作簡(jiǎn)便性而設(shè)計(jì)的平臺(tái)上提供經(jīng)驗(yàn)證的最佳成像性能。thermoscientifictmtalostml120ctem通過(guò)模塊化設(shè)計(jì)和改進(jìn)的光學(xué)穩(wěn)定性，從而產(chǎn)生超高的觀測(cè)效率、穩(wěn)定的運(yùn)行時(shí)間以及舒適的操作體驗(yàn)。talosl120ctem是入門(mén)級(jí)冷凍研究的理想解決方案，簡(jiǎn)單的點(diǎn)擊成像，以及用于
更新時(shí)間:2024-10-21
日立新一代全數(shù)字化120kv透射電子顯微鏡ht7800，屬于日立瑠璃系列產(chǎn)品rulitem，操作的一體化和自動(dòng)化程度都有明顯提高。ht7800系列產(chǎn)品有兩個(gè)型號(hào)ht7800和ht7830。ht7800系列產(chǎn)品的最大特點(diǎn)是采用日立最新設(shè)計(jì)的第二代雙隙物鏡，很好地繼承了日立120kv-tem的基本理念，兼顧低倍率與寬視野觀察、高襯度與高分辨率觀察，可在同一儀器上一鍵切換等。集高襯度和高
更新時(shí)間:2024-10-21
日本電子株式會(huì)社2010年7月最新推出了冷場(chǎng)發(fā)射雙球差校正原子分辨和分析型透射電鏡。傳統(tǒng)的冷場(chǎng)發(fā)射技術(shù)穩(wěn)定性差，亮度低，無(wú)法保證透射電鏡的使用需求。日本電子株式會(huì)社最新開(kāi)發(fā)的冷場(chǎng)發(fā)射技術(shù)解決了這些問(wèn)題，并把該技術(shù)加入到最新球差校正透射電鏡arm200f序列里。使arm200f在保證亞納米分辨率0.078nm的同時(shí)，能量分辨率提高到0.3ev，極大增強(qiáng)了原子級(jí)觀察和原子級(jí)分析能力。在美國(guó)的第一臺(tái)搭載
更新時(shí)間:2024-10-21
冷凍電鏡技術(shù)獲取生命過(guò)程中相關(guān)生物機(jī)器的結(jié)構(gòu)信息對(duì)于充分理解生物學(xué)過(guò)程和疾病的發(fā)病機(jī)制至關(guān)重要。值得注意的是，在基礎(chǔ)生物學(xué)或疾病發(fā)病機(jī)制中起關(guān)鍵作用的蛋白質(zhì)，經(jīng)常具有多重構(gòu)象或者與其他蛋白質(zhì)相互作用形成復(fù)合體，這一情況變得日益明顯。這些大的和/或動(dòng)態(tài)的體系給傳統(tǒng)3d結(jié)構(gòu)解析方法帶來(lái)了挑戰(zhàn)。
更新時(shí)間:2024-10-21
產(chǎn)品特性：●主要應(yīng)用領(lǐng)域：高校科研、光學(xué)元件生產(chǎn)企業(yè)；●借助參比光束衰減器，可測(cè)量超過(guò)8.0個(gè)吸光度單位(abs)●測(cè)量范圍可達(dá)175-3300nm—使用pbsmart近紅外檢測(cè)器擴(kuò)展了光度范圍●winuv軟件—模塊化的軟件具有強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析、處理與報(bào)告導(dǎo)出功能●成套多功能附件—可用于包括鏡面反射和漫反射在內(nèi)的材料研究●可變狹縫寬度（最小為0.01n
更新時(shí)間:2024-10-21
高通量●雙光束光學(xué)設(shè)計(jì)●氙閃光燈無(wú)需預(yù)熱時(shí)間，可進(jìn)行瞬時(shí)測(cè)量●需要參比的理想選擇，例如動(dòng)力學(xué)●標(biāo)配8聯(lián)池●可使用光纖耦合器和探頭在樣品室外進(jìn)行測(cè)量，無(wú)需比色皿●與自動(dòng)進(jìn)樣器、帕爾貼、智能吸液附件和光纖探頭附件兼容
更新時(shí)間:2024-10-21
主要特點(diǎn)如下：1.寬波長(zhǎng)范圍190-3300nm,滿足更多測(cè)定需求。2.低噪音采用連續(xù)可變狹縫，在近紅外波長(zhǎng)區(qū)測(cè)定低光量時(shí)，自動(dòng)加寬狹縫；測(cè)定高光量時(shí)，自動(dòng)減小狹縫寬度。支持低噪音測(cè)定超大范圍波長(zhǎng)區(qū)域3.高速掃描采用齒輪驅(qū)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)了紫外-可見(jiàn)-近紅外區(qū)域的快速掃描。4.低雜散光、超大測(cè)光范圍標(biāo)配新研發(fā)的蝕刻衍射光柵和高光量單色器。5.采用全新控制軟件，操作更加便捷采用uvsolu
更新時(shí)間:2024-10-21
主要特點(diǎn)：1、主機(jī)：雙光束、雙單色器、比例記錄并由計(jì)算機(jī)控制的紫外/可見(jiàn)（/近紅外）分光光度計(jì)。2、光學(xué)系統(tǒng)：整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)全部采用涂有sio2保護(hù)層的反射光學(xué)元件，全息刻線光柵刻線密度高（紫外/可見(jiàn)為1440條/mm，近紅外360條/mm）；采用先進(jìn)的四區(qū)分段的扇形信號(hào)收集的斬波器，確保了每次得到準(zhǔn)確樣品和參比的信號(hào)（斬波器運(yùn)轉(zhuǎn)期間，樣品和參比的信號(hào)分別單獨(dú)被各自的黑區(qū)信號(hào)所校正，波長(zhǎng)精度高：紫外
更新時(shí)間:2024-10-21
主要特點(diǎn)：1、軟件系統(tǒng)內(nèi)置多種分析方法及標(biāo)準(zhǔn)曲線，提供全面解決方案免費(fèi)提供了各行業(yè)常用的分析方法，點(diǎn)擊相應(yīng)選項(xiàng)，即可開(kāi)始試驗(yàn)，實(shí)現(xiàn)真正的智能化分析。
更新時(shí)間:2024-10-21
uv-1900i是一款雙光束紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)，采用了lo-ray-ligh衍射光柵，擁有卓越的光學(xué)特性，超快掃描速度和高測(cè)光重復(fù)性等性能。全新彩色觸摸屏設(shè)計(jì)帶來(lái)用戶友好新體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-10-21
單單色器uv-2600i測(cè)定波長(zhǎng)范圍延伸至1400nm配置單單色器系統(tǒng)，通過(guò)低噪音實(shí)現(xiàn)寬波長(zhǎng)范圍可進(jìn)行近紅外波長(zhǎng)測(cè)定（最長(zhǎng)1400nm）*雙單色器uv-2700i實(shí)現(xiàn)8abs測(cè)光范圍配置超低雜散光的雙單色器系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)8abs測(cè)定使用lo-ray-ligh等級(jí)衍射光柵，實(shí)現(xiàn)超低雜散光外形更緊湊及用戶友好界面與島津原機(jī)型相比，450mm外形寬度，節(jié)省安裝空間28%與島津原機(jī)型相比，節(jié)能10%標(biāo)配硬
更新時(shí)間:2024-10-21
uv-3600plusuv-vis-nir分光光度計(jì)作為高端uv-vis-nir分光光度計(jì)中產(chǎn)品一覽中新的補(bǔ)充型模型。
更新時(shí)間:2024-10-21
技術(shù)參數(shù)1.x射線發(fā)生器功率為3kw2.測(cè)角儀為水平測(cè)角儀3.測(cè)角儀最小步進(jìn)為1/10000度4.測(cè)角儀配程序式可變狹縫5.高反射效率的石墨單色器6.cbo交叉光路，提供聚焦光路及高強(qiáng)度高分辨平行光路（帶mirror）（理學(xué)獨(dú)有）7.小角散射測(cè)試組件8.多用途薄膜測(cè)試組件9.微區(qū)測(cè)試組件10.in-plane測(cè)試組件（理學(xué)獨(dú)有）11.高速探測(cè)器d/tex-ultra12.x
更新時(shí)間:2024-10-21
主要特點(diǎn)■直接傳動(dòng)高精度轉(zhuǎn)矩馬達(dá)與優(yōu)良的光學(xué)編碼器相結(jié)合，確保了儀器的傳動(dòng)速度和精度；■全部組件可以拆分為7個(gè)模塊，同時(shí)可以在5個(gè)獨(dú)立自由度上檢測(cè)樣品，適用于粉末、薄膜和塊狀樣品；■可以進(jìn)行常規(guī)的晶相識(shí)別和定量，可以分析晶體尺寸、晶格應(yīng)變及結(jié)晶度的計(jì)算；■可以定量分析殘余奧氏體、多晶物篩查、晶體結(jié)構(gòu)分析、殘余應(yīng)力分析、薄膜分析、深度剖析、相變紋理和優(yōu)先取向、納米粒子分析；■光學(xué)系統(tǒng)可以在
更新時(shí)間:2024-10-21
奧林巴斯便攜式terra?iix射線衍射儀（xrd）奧林巴斯便攜式terra?iix射線衍射儀可直接對(duì)主要和次要成分進(jìn)行實(shí)時(shí)、快速、可靠的定量礦物學(xué)和物相分析。
更新時(shí)間:2024-10-21
hermoscientificarlequinox3000型粉末x射線衍射儀配備獨(dú)有的弧形探測(cè)器，可同時(shí)測(cè)量所有角度的衍射峰，因此相比其它衍射儀測(cè)試速度更快。這種實(shí)時(shí)采集方式，十分適用于動(dòng)態(tài)研究。
更新時(shí)間:2024-10-21
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